Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606627 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K Diffusionsofen und Zubehör ist ein umfassendes Gerät, das eine kostengünstige und zuverlässige Lösung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Mit einer Vielzahl von Optionen und Konfigurationen können TEL ALPHA 303IK Diffusionsofen und Zubehör spezifische Prozessanforderungen erfüllen. Die vollautomatische Gasversorgungsausrüstung und die Fernunterstützungsfähigkeit machen es zu einem effizienten und zuverlässigen Werkzeug für die Geräteproduktion. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K Diffusionsofen bietet eine breite Palette von Betriebstemperaturbereichen mit maximal 1250 ° C. Es kann mit einer Vielzahl von Vorläufergasen verwendet werden, die eine genaue Kontrolle der diffusen Gaskonzentrationen und der Zerstäubungsrate ermöglichen. Es ist mit einem hochpräzisen Heizzonen-Temperaturregelsystem ausgestattet, das eine schnelle Heiz- und Kühlzeitantwort ermöglicht. Zusätzlich ist der Ofen für schnelles Be- und Entladen der Wafer ausgelegt. Die automatisierte Gaseinheit ermöglicht eine präzise Steuerung der gasförmigen Phasen verschiedener Vorstufen wie Silizium und Germanium. Die Gasmaschine ist in der Lage, die Durchflussraten von bis zu 10 Vorläufern und ein Restgasüberwachungswerkzeug genau zu steuern, um Sicherheit und genaue Prozessergebnisse zu gewährleisten. Zusätzlich ist die automatisierte Gasanlage mit einer Kombination aus interner Kalibriervorrichtung, Druckregelungsmodell und kompletter Gerätediagnose zur automatischen Erkennung von Fehlern und anderen Fehlfunktionen ausgestattet. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K Diffusionsofen und Zubehör bietet auch zusätzliche Funktionen wie Fernunterstützung, Temperatureinheitlichkeitskontrolle und automatische Temperaturprofilierung. Die Temperatureinheitlichkeitsregelung sorgt für eine hohe Temperaturstabilität im gesamten Ofenbereich. Darüber hinaus sorgt die automatisierte Temperaturprofilierungseinheit für eine gleichmäßige Temperatur über den Wafer. Diese Funktionen helfen, konsistente Ergebnisse während des diffundierten Gaskonzentrationsprozesses zu erhalten. ALPHA 303IK Verbreitungsbrennofen und Zubehör schließt auch erweiterte Prozessfähigkeiten wie Oxydation der Elektronzyklotronklangfülle (ECR), Polysilikonelektronzyklotronklangfülledoping und Atomschichtenabsetzung (ALD) ein. Die ECR-Oxidationsmaschine erzeugt mit einem hochfrequenten (L-Band) Signal Sauerstoffradikale für Oxidations- und Diffusionsprozesse. Das Polysilikonelektronzyklotronklangfülledopingwerkzeug ist ein Zweipunktprozess, der aus der von der negativen Ionsimplantation gefolgten Musterdefinition besteht. Das ALD-Asset verdampft Vorläufer und legt Material mit einem gepulsten Laser auf dem Wafer ab. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K Diffusionsofen und Zubehör ein umfassendes und sicheres Gerät für eine kosteneffiziente Halbleiterproduktion. Es bietet eine breite Palette von Temperatur-, Gas- und Prozessfähigkeiten, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen. Darüber hinaus ist es mit automatisierter Gaslieferung, Fernunterstützung, genauem Temperaturprofil und erweiterten Prozessfähigkeiten ausgestattet. Dies macht es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und Prozessunterstützung.