Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein fortschrittlicher Diffusionsofen und ein wesentliches Werkzeug für Forschung, Produktion und Qualitätskontrolle in der Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um genaue und gleichmäßige Dotierstoffprofile zu erstellen und elektrische Leckagen während der Verarbeitung zu verhindern. Dieser Ofen ist speziell für die Abscheidung von Silizium-auf-Isolator (SOI) -Schichten ausgelegt und eignet sich hervorragend für die Dehnungstechnik, die Mehrschichtabscheidung und für die Herstellung von Hochleistungs-Halbleiterbauelementen. TEL ALPHA 303IK verfügt über einen Temperaturbereich von 200-1200 ° C mit fortschrittlicher Heizausrüstung, die gleichmäßige und genaue Temperaturverteilungen gewährleistet. Es ist auch mit einem geschlossenen thermoelektrischen Kühler (TEC) zur präzisen Regelung der Substrattemperaturen während der Verarbeitung ausgestattet. Der fortschrittliche Heizungsregler verfügt über einen geringen Stromverbrauch und ermöglicht eine verbesserte Heizungsleistung. Darüber hinaus bietet die einzigartige Dotierstoffprüfeinheit auf Waferebene eine genaue Prozessüberwachung, auch wenn Variationen auf Waferebene vorhanden sind. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K enthält eine fortschrittliche Erdgasdispersionsmaschine, die eine gleichmäßige und präzise Gasverteilung ermöglicht. Dieses Werkzeug hilft bei der Aufrechterhaltung der Gleichmäßigkeit der chemischen Dampfabscheidung (CVD) und anderer Prozesse, indem Schwankungen der Gaskonzentrationen entlang des Substrats minimiert werden. Neben dem Diffusionsofen gibt es auch verschiedene Zubehörteile, wie Quarzheizelemente, manuelle und automatische Fördermotoren und Scheibenfutter. Dieses Zubehör ermöglicht eine effiziente Verarbeitung und eine geringe Kontamination. ALPHA 303IK verfügt zudem über eine flexible Kühlung zur schnellen Kühlung und Stabilisierung von Halbleitermaterialien. Sein Autofluid-Modell verwaltet effizient Temperaturen und sorgt für thermische Gleichmäßigkeit auf Waferebene während des gesamten Kühlprozesses. Darüber hinaus fördert die preisgekrönte intelligente Vakuumentlüftungsanlage einen effizienten Betrieb und verhindert einen Druckaufbau in der Prozesskammer. ALPHA 303 I K ist für sicheren und zuverlässigen Betrieb gebaut; Es enthält eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Notabschaltung und Verriegelungen. Darüber hinaus ist der Ofen mit einer intuitiven GUI ausgestattet, die eine einfache Programmierung und Bedienung ermöglicht. Insgesamt ist Alpha 303i-K ein fortschrittlicher und hochzuverlässiger Diffusionsofen, der den Anforderungen der Halbleiterforschung und -produktion gerecht wird.