Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9250260 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein Top-of-the-Line Diffusionsofen, der speziell für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleitern entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um überlegene Temperaturgleichmäßigkeit, Stabilität und Wiederholbarkeit der Prozessergebnisse zu bieten. Der Ofen ist mit In-situ-Messsystemen wie Luminos Mass Flow Controller (MFC), Oxide Mass Flow Controller (OMFC), Hot-Wire Line Source (HWLS), Chromel/Alumel/Albaloy-1 Thermoelement und chromel/alumel/Albaloy-1/kapton Thermoelement ausgestattet, um eine präzise Kontrolle der Verarbeitungsbedingungen zu ermöglichen. Der maximale Temperaturbereich von TEL ALPHA 303IK beträgt 1200 ° C. Es verfügt über ein Quarzrohr mit Ein-Zwei-Druck-Kontrollsystem, das eine starke Dichtung bietet, die gegen Viren und Staub resistent ist, um maximale Sauberkeit zu erhalten und die Einführung von Verunreinigungen in die Verarbeitungsumgebung zu reduzieren. Der Diffusionsofen ist mit einem Drei-Zonen-Heizsystem ausgestattet - der Propanzone (auch Infrarotzone genannt), der Transferzone und der Hot-Wire-Zone. In der Propanzone wird Propangas als Wärmequelle verwendet, um das Substrat schnell auf die Zieltemperatur anzuheben. Die Transferzone wird dann verwendet, um die Substrate leicht in und aus dem Ofen zu bewegen. Die Hot-Wire Zone verwendet die Hot-Wire Line Source, um die Temperaturhomogenität zu gewährleisten. Zusätzlich ist der Ofen mit einem Process Monitor (PM-1) -System ausgestattet, um wertvolle Echtzeit-Rückmeldungen über die Parameter des Diffusionsprozesses zu liefern. Dies ermöglicht es dem Bediener, die Betriebstemperatur, den Gasfluss und die Ausstattungsleistung während des Diffusionsprozesses genau und effizient zu überwachen und anzupassen. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K bietet zudem eine partikelarme Diffusionsleistung, eine präzise Temperaturregelung und eine fortschrittliche Benutzeroberfläche. Dies bietet eine schnelle und einfache Möglichkeit, die Diffusionsparameter für jede Substrat- oder Reinigungs-/Ätzaufgabe einzurichten. Insgesamt ist ALPHA 303IK Diffusionsofen ein effizientes und zuverlässiges Instrument zur Herstellung hochwertiger Wafer mit hervorragender Kostenleistung. Es ist die ideale Lösung für die Serienfertigung von Halbleiterbauelementen und somit ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung moderner integrierter Schaltungen.