Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9281995 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein hochmoderner Diffusionsofen und zugehörige Bauelemente für die Halbleiterwaferbearbeitung. Es kombiniert anodisierte aluminiumoxidierte Rohre, lineare Induktionsheizelemente und fortschrittliche computergesteuerte Steuerungen, um eine überlegene Waferdiffusion und Glühleistung sicherzustellen. TEL ALPHA 303IK verfügt über ein induktives 700-Watt-Netzteil, das eine lineare induktive Heizung bis 2000 ° C bietet. Es wird auch mit einem Gaseinspritzsystem geliefert, das eine präzise Abgabe einer Vielzahl von Chemikalien ermöglicht. Dies ist wichtig für die Optimierung der Ergebnisse in einer Vielzahl von Prozessanwendungen, einschließlich Nitridoxidation und Implantation. Der Ofen wird durch eine Hochdruck-Türklemme sicher beladen, wodurch ein maximaler Druck auf die Wafer und ein Schutz vor Verschmutzung gewährleistet ist. Ein automatisiertes Temperaturregelsystem ermöglicht präzise und wiederholbare Heizzyklen sowie die Möglichkeit, mehrere thermische Profile für verschiedene Prozessschritte einzustellen. Darüber hinaus sorgt ein eingebautes Vakuumsystem für die Stabilität der Temperatur und Atmosphäre im Ofenraum. Für zusätzlichen Komfort, TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K enthält eine Wafer-Locator-Option, so dass eine sichere Platzierung von Wafern in den Ofen ohne manuelle Beladung. Eine Waferkassette kann bis zu zwölf Wafer aufnehmen, was sie für eine Vielzahl von Anwendungen nützlich macht. Neben der überlegenen Diffusion können TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK auch für oxiddielektrisches Ätzen, reaktives Ionenätzen und thermisches Oxidnitridätzen verwendet werden. Es enthält eine abnehmbare Wafer-Box, die einen einfachen Transport und Reinigungsaufgaben ermöglicht. Es verfügt auch über eine niedrige Temperatureinstellung, so dass der Ofen für schnelle Kühl- und Glühanwendungen verwendet werden kann. ALPHA 303IK ist ein Hochleistungsverbreitungsbrennofen, der über die breite Reihe von Halbleiteroblatenverarbeitungsanwendungen verwendet werden kann. Es bietet leistungsstarke und präzise computergesteuerte Steuerungsfunktionen sowie mehrere Optionen zum Laden von Wafern. Es bietet zuverlässige, wiederholbare Leistung und langfristige Funktionalität und ist damit eine zuverlässige und kostengünstige Wahl für Halbleiterhersteller.