Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9373155 zu verkaufen
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ID: 9373155
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Vertical LPCVD furnace, 12"
Process: TEOS
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
Main controller (WAVES)
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Gases:
Gas 1: N2
Gas 2: N2
Gas 3: O2
Gas 4: TEOS
Gas 5: N2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Manual valve: CKD
Air operated valve: CKD
MFC: HORIBA STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Main valve: CKD VEC
Cold trap
No pump line
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Mechanical parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-002, 100 wfs
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
Furnace cabinets includes clean air flow system
Scavenger and water cooling unit
Power supply unit (U/P Box):
Control unit
Transformers
SCR
Breaker unit
FOUP and wafer handling automation:
(2) FOUP Load ports
FOUP Transfer
Stocker: (18) FOUPs
FIMS Port
KHI Wafer load automation
Variable pitch change mechanism with (5) forks
Auto tube shutter
Boat elevator with boat rotation mechanism
Integrated gas system in gas cabinet and TEOS LSC baking system:
O2 Gas line
TEOS Gas line
Purge N2
Vacuum vent
Exhaust vent
Piping tape heater
Main valve type: CKD Hot, P/N: VEC-VH8G-X0101
Vacuum gage
Pressure switch
Piping: 100 A VAC
Does not include:
Outer/Inner T/C
N2 Load lock
N2 Boat cooling shower
Dual boat operation
B.S Sensor: 0-10 Torr, 0-1000 Torr
Cable length: 12 m (Power box)
AC Power box: 208Ｖ,3 Phase, 4 Wires
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein fortschrittlicher Diffusionsofen und Zubehör Ausrüstung ermöglicht es Kunden, qualitativ hochwertige, kostengünstige, Hochdurchsatz-Halbleiterherstellung Verarbeitung durchführen. Das System weist einen Einzonenofen, eine Gasfördereinheit, einen bordeigenen Waferlader, einen automatisierten Waferübertragungsarm und eine Steuerung auf. Der Einzonenofen verwendet niedergeschwindigkeitsarme Quarzrohre, um die Anforderungen an die Komponentendiffusion zu erfüllen und eine verbesserte thermische Gleichmäßigkeit und Wafertemperaturstabilität zu gewährleisten. Mit einer maximalen Arbeitstemperatur von 1.100 ° C (2.012 ° F) eignet sich TEL ALPHA 303IK gut für dielektrische und Metallisierungsschichten und verwandte Verfahren. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein innovatives Schutzatmosphäre-Gasstagnationswerkzeug, das eine gleichmäßige Strömung und Reaktion gewährleistet und eine optimale Leistung bei einer Vielzahl von Gasen ermöglicht. Der bordeigene Waferlader bietet eine effiziente und automatisierte Möglichkeit, Wafer schnell und zuverlässig in das Asset einzuspeisen. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K ist mit seiner großen Kapazität und mehreren Lastoptionen bestens ausgestattet, um eine Vielzahl von Wafergrößen und Substraten zu handhaben. In Kombination mit dem automatisierten Wafer-Transferarm entfällt mit ALPHA 303IK das manuelle Wafer-Handling und verbessert die Durchlaufzeiten. Das Modell ist einfach zu bedienen und zu warten, mit einem Controller mit intuitiv gestalteten Menüs und Fenstern für verbesserte Benutzerfreundlichkeit. Die Steuerung bietet Regelparameter wie Rampen- und Tränkeinstellungen, Ofenbetriebsparameter und Gasfördereinstellungen. Zusätzlich kann der Controller mit einem externen PC verbunden werden, um die Fernüberwachung und Auswertung von Prozessdaten zu ermöglichen und so Prozessleistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist die ultimative Lösung für Kunden, die einen effizienten und kostengünstigen Diffusionsofen und Zubehör benötigen. Das System verfügt über einen Einzonenofen, einen automatisierten Waferübertragungsarm, einen bordeigenen Waferlader, eine Schutzatmosphäre-Gasstagnationseinheit und einen intuitiven Controller. Vollautomatisiert, benutzerfreundlich und mit zuverlässiger Leistung ist TEL ALPHA 303 I K die ideale Wahl für anspruchsvolle Halbleiterherstellungsprozesse.
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