Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381817 zu verkaufen
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ID: 9381817
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Furnace, 12"
MTO
Heater type: VMM-56-002
Gas: Pure N2, SiH4, N2O
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein Diffusionsofen und sein zugehöriges Zubehör für verschiedene Anwendungen in der Halbleiterbauelementfertigung und verwandten Industrien. Es ist ein Werkzeug für die genaue und effiziente thermische Verarbeitung von Substraten. TEL ALPHA 303IK hat eine große Heizkammer von 12 Zoll Durchmesser und 8 Zoll Höhe, so dass eine große Menge an Substraten gleichzeitig bearbeitet werden kann. Das Gerät wird über indirekte Quarzlampen für eine höhere Gleichmäßigkeit entlang der Wellenlänge und für eine verbesserte Ergonomie beheizt. Die obere Platte des Ofens wird durch eine lineare Stufe betrieben, die eine präzise Bewegungssteuerung und genaue Wafer-Positionierung ermöglicht. Die Bodenplatte wird von einer motorisierten vierachsigen Stufe betrieben, um eine genaue Einstellung der Heizraumtemperatur zu ermöglichen. Das System ist mit einem fortschrittlichen, auf Lucent Technologies Guardian Ethernet basierenden Automatisierungscontroller ausgestattet, der eine Fernbedienung und Freisprecheinrichtung ermöglicht. Der Controller verfügt zudem über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die eine vereinfachte Überwachung und Prozesssteuerung ermöglicht. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K verwendet einen beheizten Suszeptor, um die Verarbeitung bei Temperaturen bis zu 1200 Grad Celsius durchzuführen und verfügt über eine automatische Neigungsfunktion, die eine Drehbewegung bei gleichmäßiger Substrattemperatur ermöglicht. Um Kühlvorgänge zu erleichtern, verfügt der Ofen über eine Helium-gezwungene Kühleinheit, um die Kammer nach Abschluss der Verarbeitung schnell abzukühlen. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K mit einem hochdichten Alkali Liquid Vaporizer ausgestattet, um eine überlegene gleichmäßige Filmabscheidung bereitzustellen. Diese Maschine ist auch kompatibel mit verschiedenen fortgeschrittenen Oxidentfernungsverfahren für verbesserte dielektrische Eigenschaften. Das Instrument verfügt über ein Vakuum Chemical Vapor Deposition Tool, das die Abscheidung von Metallfolien mit gleichmäßigen Eigenschaften für eine verbesserte Ausbeute ermöglicht. Alle diese Komponenten sind mit einer befehlsbasierten Software für eine einfache Automatisierung und Integration in Kundensysteme verpackt. Insgesamt ist ALPHA 303IK ein komplettes Werkzeug für die Waferbearbeitung und Metallabscheidung, ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und andere Industrien im Zusammenhang mit Elektronik. Diese Ressource kann genaue, effiziente und zuverlässige thermische und chemische Verarbeitung für überlegene Erträge bieten.
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