Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381861 zu verkaufen
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ID: 9381861
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Furnace, 12"
Process: DCS-HTO
Heater type: VOS-56-003
Gas: NH3 / SiH2Cl2 / N2O / SiH4
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein fortschrittliches Diffusionsofen und Zubehörpaket, das entwickelt wurde, um überlegene Leistung für die Forschung und Produktion von Halbleiter- und Elektronikgeräten zu bieten. Die Ausrüstung ist für eine Vielzahl von Bedürfnissen konzipiert, einschließlich der Verarbeitung verschiedener Materialien, wie Silizium, Galliumarsenid und Germanium. TEL ALPHA 303IK umfasst eine große Diffusionskammer, die eine gleichmäßige Erwärmung und eine präzise Heißzone bietet. Es verfügt über eine Temperaturgradientensteuerung, die schnelle Temperaturänderungen und schnelle Ansprechzeiten bietet. Die Diffusionskammer weist außerdem eine sehr gleichmäßige Gasströmung auf, um eine gleichmäßige Dotierung des Wafers zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K verfügt über erweiterte Steuerungen und Software, mit denen der Benutzer seine Prozessparameter anpassen kann. Es verfügt auch über Diagnosen zur Überwachung der Gerätetemperatur, des Drucks und des Gasflusses. Es enthält auch eine elektronische Steuerung, die Gase von bis zu vier Gasquellen genau mischt und reguliert. ALPHA 303 I K verfügt über eine Schnellvakuumheizung zur schnellen Erwärmung und Kühlung der Kammer. Die einfach zu bedienende Software ermöglicht es Benutzern, ihre Parameter mit minimalem Aufwand anzupassen. Die Kammer ist auch gut versiegelt, um ein hohes Vakuum aufrechtzuerhalten. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K verfügt über ein breites Zubehör, das eine schnellere und effizientere Verarbeitung der Wafer ermöglicht. Dazu gehören ein Bootsliftkit, Tragegriffe, ein Ladegestell, Probenhalter, automatisches Gummidichtungsset, ein Gasabgabeset, eine Vakuumausrüstungsschnittstelle und ein Stickstoffspülsystem. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert, einschließlich Halbleiterbauelementherstellung, Beschichtung, Abscheidung und Lasing. Der Ofen ist äußerst zuverlässig, da er eine Ausfallzeit von weniger als einer Stunde pro Monat aufweist. Darüber hinaus hat es eine sehr hohe Produktionseffizienz und ist damit ideal für moderne Fertigungsanlagen von heute. Insgesamt ist TEL ALPHA 303 I K ein zuverlässiges und hochentwickeltes Diffusionsofen und Zubehörpaket, das überlegene Leistung für die Forschung und Produktion von Halbleiter- und Elektronikgeräten bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen ist TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK perfekt für diejenigen, die eine qualitativ hochwertige Produktion verlangen, sowie für diejenigen, die enge Fristen einhalten müssen.
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