Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394990 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9394990
Wafergröße: 12"
Furnace, 12" Gases: SiH4, Si2H6, H2, ClF3, LTO520 (Liquid).
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K ist ein präziser und zuverlässiger Einzel-Wafer Diffusionsofen und Zubehör, das im Halbleiterherstellungsprozess eingesetzt wird. Insbesondere können die 303i-K zum Glühen, Dotierungsdiffusion und Kristallisationsverfahren verschiedener Materialien (z.B. Siliziumscheiben, Galliumarsenidscheiben etc.) verwendet werden. Der Ofen verwendet ein Infrarot-Heizsystem, das hochpräzise und gleichmäßige Temperaturen erzeugt, wodurch die thermische Zykluszeit verkürzt werden kann. Darüber hinaus verfügt das 304i-K über ein robustes und flexibles Optionsset, mit dem Benutzer mehrere Prozesse gleichzeitig durchführen können. Dazu gehören der gleichzeitige Betrieb mehrerer Wafer, die Anpassung des Temperaturprofils und je nach Material die Möglichkeit zum Oxid- oder Nitridglühen. Das 303i-K verfügt über eine einzigartige Be- und Entladeeinheit, so dass mehrere Wafer gleichzeitig be- und entladen werden können. Zusätzlich wird die Temperatur der Kammer schnell stabilisiert, was eine schnelle Zykluskühlung und Glühprozesse gewährleistet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein Überwachungswerkzeug, das es Ingenieuren ermöglicht, Waferbearbeitungsschritte zu beobachten und den Prozesszustand in Echtzeit zu überprüfen, um Waferausfälle zu reduzieren und Prozessverunreinigungen zu verhindern. Um maximale Sicherheit zu gewährleisten, läuft die 303i-K mit einer sauberen Luft, die eine Schutzatmosphäre schafft und aufrechterhält. Dies hält ein kontrolliertes Maß an Reinheit in der Kammer und hilft auch bei der Verringerung Wafer Abbau. Darüber hinaus führt das Modell auch eine Selbstdiagnose seiner Funktionen durch, die dem Bediener bei der Ermittlung von Leistungsproblemen hilft, bevor sie auftreten und Schäden verursachen. In Bezug auf Spezifikationen und Leistung verfügt die 303i-K über eine Belastbarkeit von bis zu zwölf Zoll-Wafern und arbeitet in einem Temperaturbereich von 100.000-1400 ° C. Der Ofen ist auch mit Softwaresteuerungen ausgestattet und bietet Benutzern Programmieroptionen wie maximale Leistung nach oben, maximale Frequenz nach unten, variable thermische Rampe und andere für eine größere Anpassung. Abschließend ist TEL ALPHA 303IK ein präziser Einzelwafer-Diffusionsofen und Zubehör mit einer Vielzahl von Funktionen, die den Prozess des Glühens, der Dotierstoffdiffusion und der Kristallisation sicher und effizient machen sollen.
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