Gebraucht OXFORD Plasmalab 100 #293772814 zu verkaufen

OXFORD Plasmalab 100 ist eine hochentwickelte Plasmaätz-/Aschemaschine für Präzisionsätz- und Ascheprozesse in der Halbleiterherstellung und in Forschungsanwendungen. Dieses hochmoderne Werkzeug bietet außergewöhnliche Prozessflexibilität, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit und ist somit eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Plasmabearbeitungsanforderungen. Im Zentrum von Plasmalab 100 steht eine ausgeklügelte Plasmaquelle, die ein hochdichtes, gleichmäßiges Plasma erzeugt, um ein effizientes Ätzen und Entfernen von Material aus Halbleiterproben zu erleichtern. Das System ist mit mehreren Gaseingängen ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Prozessgasen und Parametern ermöglichen, um die gewünschten Ätzraten, Selektivität und Gleichmäßigkeit über die Probenoberfläche zu erreichen. OXFORD Plasmalab 100 verfügt über ein vielseitiges Kammerdesign, das verschiedene Probengrößen und -formen aufnimmt und es Anwendern ermöglicht, eine breite Palette von Materialien mit unterschiedlichen Abmessungen und Geometrien zu verarbeiten. Die fortschrittliche Vakuummaschine des Geräts gewährleistet schnelle Abpumpzeiten und ein hohes Maß an Prozessstabilität und trägt zu einer verbesserten Prozessreproduzierbarkeit und Gesamtproduktivität bei. Eine der Hauptstärken von Plasmalab 100 ist seine intuitive Benutzeroberfläche, die dem Bediener einen einfachen Zugriff auf ein umfassendes Spektrum an Prozessrezepten und Parametern ermöglicht. Die Software des Tools ermöglicht die Echtzeit-Überwachung und Steuerung wichtiger Prozessparameter wie Gasdurchflussraten, Druck, Leistung und Temperatur, so dass Benutzer die Prozessbedingungen für optimale Ergebnisse feinjustieren können. OXFORD Plasmalab 100 bietet eine Reihe von Plasmaätz- und Ascherfunktionen, darunter reaktives Ionenätzen (RIE), induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) Ätzen und Plasmareinigung/-asche. Diese Prozesse können mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit durchgeführt werden, wodurch das Gut für Anwendungen wie Mustertransfer, Geräteherstellung, Oberflächenreinigung und Materialabtrag geeignet ist. Die fortschrittliche HF-Stromversorgung und das passende Netzwerk des Modells sorgen für eine stabile Plasmaerzeugung und eine gleichmäßige Verarbeitung über den gesamten Probenbereich. Plasmalab 100 verfügt auch über fortschrittliche Gaszufuhr- und Mischsysteme, die eine präzise Kontrolle über die Chemie des Plasmas ermöglichen und die Anpassung von Ätzprozessen an spezifische Anforderungen erleichtern. Neben seiner außergewöhnlichen Leistung und Flexibilität ist OXFORD Plasmalab 100 unter Berücksichtigung von Anwendersicherheit und Umweltaspekten konzipiert. Die Ausrüstung enthält verschiedene Sicherheitsverriegelungen und Alarme, um zu verhindern, dass der Bediener gefährlichen Chemikalien und hohen Spannungen ausgesetzt ist, wodurch eine hohe Betriebssicherheit während der Plasmabearbeitung gewährleistet ist. Insgesamt ist Plasmalab 100 ein modernes Werkzeug, das fortschrittliche Plasmabearbeitungsfunktionen mit benutzerfreundlicher Bedienung kombiniert, was es zu einem wesentlichen Vorteil für Halbleiterforschung und Produktionsanlagen macht, die qualitativ hochwertige, zuverlässige Ätz- und Ascherprozesse erreichen möchten. Seine Vielseitigkeit, Präzision und sein robustes Design zeichnen ihn als Spitzenlösung für anspruchsvolle Plasmabearbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie aus.