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OXFORD Plasmalab 100
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OXFORD Plasmalab 100 #293660206

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Etcher ICP 180 Gases: C4F8, CHF3, SF6 2005 vintage.
2
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OXFORD Plasmalab 100 #293757023

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System.
23
OXFORD Plasmalab 100 #293743445

OXFORD

Plasmalab 100

System (2) Process modules Quartz clamp, 6" PECVD Left chamber ICP/RIE Right chamber with turbo Endp
15
OXFORD Plasmalab 100 #293748565

OXFORD

Plasmalab 100

Reactive Ion Etcher (RIE).
46
OXFORD Plasmalab 100 #293656747

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System, 8" Process: SiN.
125
OXFORD Plasmalab 100 #293651867

OXFORD

Plasmalab 100

System Type: ICP 380 2013 vintage.
116
OXFORD Plasmalab 100 #9410020

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Reactive Ion Etcher (RIE), 3"-8" Chamber Low temperature silicon etching system Unique process
164
OXFORD Plasmalab 100 #9258339

OXFORD

Plasmalab 100

Dry etcher No computer.
143
OXFORD Plasmalab 100 #293591996

OXFORD

Plasmalab 100

ICP-RIE System LGIT Does not include dry pump.
136
OXFORD Plasmalab 100 #293592017

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System LGIT Does not include dry pump.
129
OXFORD Plasmalab 100 #293666727

OXFORD

Plasmalab 100

System.
121
OXFORD Plasmalab 100 #293651581

OXFORD

Plasmalab 100

ICP System.
130
OXFORD Plasmalab 100 #293641059

OXFORD

Plasmalab 100

ICP System, 6".
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OXFORD Plasmalab 100 #293636271

OXFORD

Plasmalab 100

ICP-RIE System.
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OXFORD Plasmalab 100 #9364612

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System, 2"-6".
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OXFORD Plasmalab 100 #9364613

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Etcher, 2"-6".
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OXFORD Plasmalab 100 #9188881

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Etcher, 6" Currently crated.
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