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OXFORD Plasmalab 100
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OXFORD Plasmalab 100 #293757023

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System.
12
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OXFORD Plasmalab 100 #293743445

OXFORD

Plasmalab 100

System (2) Process modules Quartz clamp, 6" PECVD Left chamber ICP/RIE Right chamber with turbo Endp
3
OXFORD Plasmalab 100 #293748565

OXFORD

Plasmalab 100

Reactive Ion Etcher (RIE).
34
OXFORD Plasmalab 100 #293660206

OXFORD

Plasmalab 100

System With ICP 180 Gases: C4F8, CHF3, SF6 2005 vintage.
112
OXFORD Plasmalab 100 #293656747

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System, 8" Process: SiN.
112
OXFORD Plasmalab 100 #293651867

OXFORD

Plasmalab 100

System Type: ICP 380 2013 vintage.
104
OXFORD Plasmalab 100 #9410020

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Reactive Ion Etcher (RIE), 3"-8" Chamber Low temperature silicon etching system Unique process
150
OXFORD Plasmalab 100 #9258339

OXFORD

Plasmalab 100

Dry etcher No computer.
130
OXFORD Plasmalab 100 #293591996

OXFORD

Plasmalab 100

ICP-RIE System LGIT Does not include dry pump.
125
OXFORD Plasmalab 100 #293592017

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System LGIT Does not include dry pump.
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OXFORD Plasmalab 100 #293666727

OXFORD

Plasmalab 100

System.
108
OXFORD Plasmalab 100 #293651581

OXFORD

Plasmalab 100

ICP System.
116
OXFORD Plasmalab 100 #293641059

OXFORD

Plasmalab 100

ICP System, 6".
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OXFORD Plasmalab 100 #293636271

OXFORD

Plasmalab 100

ICP-RIE System.
126
OXFORD Plasmalab 100 #293587250

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Reactive Ion Etcher (RIE) LED Field PECVD.
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OXFORD Plasmalab 100 #9364612

OXFORD

Plasmalab 100

PECVD System, 2"-6".
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OXFORD Plasmalab 100 #9364613

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Etcher, 2"-6".
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OXFORD Plasmalab 100 #9188881

OXFORD

Plasmalab 100

ICP Etcher, 6" Currently crated.
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