Gebraucht OXFORD Plasmalab 100 #9188881 zu verkaufen

OXFORD Plasmalab 100
ID: 9188881
Wafergröße: 6"
ICP Etcher, 6" Currently crated.
OXFORD Plasmalab 100 ist ein leistungsstarker Ätzer/Ascher. Es ist eine kammerbasierte Ausrüstung, die in Kombination mit Hochleistungs-Plasmaprozessen für die Nanofabrikation verwendet wird. Das System verfügt über eine große Quarzkammer mit niedriger Vakuumumgebung und kontrollierten Gasströmen, die eine genaue Ätzung oder Aschearbeit ermöglichen. Die Kammer ist auch mit einem großen Substratträger sowie dedizierten in-situ optischen Modulen, einer 2D-Mapping-Software und einer segmentierten Kammer mit unterschiedlichen Druckregimen ausgestattet. Plasmalab 100 Einheit hat eine magnetische ‐ Gasversorgung und verwendet RF‐driven Entladungen, so dass der Benutzer die aktiven Arten innerhalb der Kammer und Ablagerungsschichten auf dem Substrat steuern. Die Maschine ist ideal für das Ätzen und die Aschebearbeitung verschiedener Materialien, einschließlich komplexer Strukturen. Es ermöglicht eine genaue Kontrolle und Wiederholbarkeit des entwickelten Prozesses, da die einzelnen Plasmaspezies Dichten, Temperaturen und Drücke präzise eingestellt und stabilisiert werden können. OXFORD Plasmalab 100 Werkzeug ist auch in der Lage, mit einer Vielzahl von Substraten zu arbeiten, wie Edelstahl, Silizium, Glas und Polymersubstrate, so dass Benutzer Ätz- und Ascheanwendungen für die Entwicklung von nanoskaligen Strukturen zu entwickeln. Plasmalab 100 Asset verfügt über ein fortschrittliches computergesteuertes Gashandlingmodell, das die Verwendung verschiedener Gase ermöglicht und optimale Ätz- und Ascheeigenschaften ermöglicht. Das Gerät ist auch mit fortschrittlichen Diagnosewerkzeugen, wie Massenspektrometern, Langmuir-Sonden und Ringelektroden-Arrays ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglichen, die Dynamik der Plasmaprozesse zu steuern. OXFORD Plasmalab 100 kann auch zur Nitrierung, Eloxierung und Oberflächenmodifizierung eingesetzt werden. Darüber hinaus ist das System mit einer Vielzahl von Zubehörkomponenten kompatibel, wie Masken, elektrostatisches Futter, Schattenmasken und Mikroskope. Plasmalab 100 wurde entwickelt, um Hochleistungs-Ätz- und Ascheprozesse in einer Niederdruck-, sicheren und wiederholbaren Umgebung bereitzustellen, so dass der Benutzer komplexe Nanostrukturen sicher entwickeln kann. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen eine schnelle und präzise Optimierung und Reproduzierbarkeit des Plasmaprozesses. Das Gerät eignet sich für Forschungs- und Produktionsanwendungen und wird häufig in der Halbleiterverarbeitung und MEMS-Anwendungen eingesetzt.
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