Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC #9236836 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000ATC ist ein Ätzer/Ascher für Plasmabearbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es nutzt eine Kombination aus plasmaunterstützten Ätz- und Naßchemie-Reinigungsprozessen, um saubere und präzise Merkmale auf einem Substrat zu schaffen. Das Gerät wurde speziell entwickelt, um ein hohes Maß an Wiederholbarkeit und Genauigkeit zu erreichen und gleichzeitig eine Plattform für umfangreiche Prozessentwicklung und -optimierung zu bieten. TEL TE 5000ATC ist ein Dualkammersystem, das mit unabhängigen Prozessparametern und Einstellungen bis zu zwei Substrate gleichzeitig verarbeiten kann. Die Hauptkammer ist mit einer Drehstufe, Endeffektvorrichtungen, Zielsteuerung und Plasmaversorgungen sowie verschiedenen Gasen zur Erzeugung von ionisierten Lösungen auf die Substratoberfläche ausgestattet. Die Sekundärkammer ist mit einer Handlingstation, einer Drehstufe und Lösungsversorgungsleitungen ausgestattet. Das Substrat wird in der Sekundärkammer vor Eintritt in die Hauptkammer für Ätzvorgänge vorgereinigt. TOKYO ELECTRON TE 5000ATC bietet ein hohes Maß an Prozesskontrolle mit einem umfangreichen Angebot an Gasförder-, Druck-, Temperatur- und Sicherheitssystemen. Die Plasmaprozessparameter können sowohl lokal als auch ferngesteuert über das Touchscreen-Bedienfeld eingestellt werden. Das Gerät ist mit einer eingebauten Wafer-Kantenerfassungsmaschine ausgestattet und es können eine Reihe von Substraten einschließlich Silizium und III-V-Verbindungen untergebracht werden. Möglich sind eine Vielzahl von Ätzprozessen, darunter trockenes, gerichtetes und gleichmäßiges Ätzen sowie dreidimensionales anisotropes Ätzen. TE 5000ATC Schnittstellen zu anderen industriellen Automatisierungssystemen, um die Produktion zu rationalisieren, und wurde entwickelt, um sicherzustellen, dass Sicherheit an erster Stelle steht. Es verfügt über ein energieeffizientes Plasmaerzeugungswerkzeug, das den Energieverbrauch reduziert und die neuesten Umweltvorschriften vollständig erfüllt. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000ATC ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für Plasmabearbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Die Kombination aus plasmaunterstützten Ätz- und Naßchemie-Reinigungsprozessen bietet eine hohe Präzision, Wiederholbarkeit und Kontrolle sowie die Erleichterung der Prozessentwicklung und -optimierung. Es ist mit größtmöglichen Sicherheitsaspekten für Personal, Umwelt und Substrat ausgelegt.