Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Telius SP 308QS #9213296 zu verkaufen

ID: 9213296
Deep trench silicon etchers 12" FOUP (4) Chambers (SCCM) (5) Loader ports Load locker modules GEW3040 and NOVA50A 40MHz and 3.2MHz dual frequency source ESD Chuck Temperature control RF Application method Process: 80um deep 90nm wide via silicon etch Chamber: Aluminum alloy chamber Material: Aluminum alloy (A6061) Surface finishing: Hard sulfuric acid anodizing RF Application method: Apply upper RF to lower electrode Discharge method: SCCM Type Temperature control: Upper electrode: Temperature control by heater and cooling water Lower electrode: Temperature control by circulating coolant Side wall: Temperature control by heater Upper electrode: Quartz cover or aluminum alloy (A6061) with hard sulfuric acid anodizing Shield ring Lower electrode: Ceramics electro static chuck Thermometer Wafer holding method: Electrostatic chuck(φ300) mechanism Lifter: Resin Focus ring: Qz Exhaust plate: Aluminum alloy with hard sulfuric acid anodizing Insulation ring: Quartz cover or aluminum alloy (A6061) with hard sulfuric acid anodizing Distance between electrodes: 30~35 mm Magnet: Intensity: 170G (center) Rotation: 20± 1rpm Pressure monitor: (3) Types He B.P unit: Cooling gas for wafer back Pressure switch: PCV (STEC) Number of line: (2) Lines Control range of pressure: (Center / Edge): 0~7980Pa(0~60Torr) He monitor: Leakage monitor Detection of valve open / close: Valve ON/OFF sensor End point detection: SE2000 Confirmation of luminescence Window: Orifice (Quartz) Deposition shield: Removable depo-shield Material: Quartz Shutter: Plate: Aluminium alloy with hard sulfuric anodizing Drive: Air cylinder Final valve: Diaphragm type mega-one (Fujikin)                   Manifold: Aluminium alloy with hard sulfuric anodizing O-ring for chamber: Chemratz Specifications for performance: Ultimate vacuum: 0.0133 Pa (7.5*10-2 mTorr) or less Leak back: 0.133 Pa/min (1 mTorr/min) or less 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telius SP 308QS ist ein hochpräziser Ätzer/Ascher, der eine präzise Filmdickenregelung und schnelle Substratverarbeitung ermöglicht. Die Maschine nutzt eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien, um qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen und gleichzeitig bemerkenswerte Durchsatzgeschwindigkeiten zu erzielen. TEL Telius SP 308QS verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, die den Ätzprozess einfach und einfach macht. Die Ätzkammer ist flexibel und ergonomisch konzipiert und eignet sich für eine Vielzahl von Ätzanwendungen. Es verfügt über eine fortschrittliche Vier-Laser-Interferometrie-Ausrüstung zur präzisen Kontrolle der Filmdicke. Dieses System ist in der Lage, Filmdicken von 0,2 nm bis 70 mm zu messen und zu messen. Es verfügt auch über einen automatischen i-LINE-Modus für hochpräzises Ätzen mit einer einfachen Ein-Knopf-Bedienung. Das Gerät verfügt über einen grafischen Mustereditor, mit dem Sie Ätzmuster für erweiterte Anwendungsanforderungen einfach bearbeiten können. Der Ätzvorgang wird in einer thermisch gesteuerten, ultrahochvakuumätzkammer durchgeführt. Diese Vakuumkammer ist in der Lage, Vakuumniveaus von bis zu 10-7 Torr zu erreichen. Es verfügt über eine automatische Optimierungsfunktion, mit der Ätzbedingungen automatisch angepasst werden können, um höhere Ätzraten und niedrigere Ätzselektivität zu erreichen. Die automatische Optimierung kann auch zur Feinabstimmung der Ätzbedingungen für eine präzisere Prozesssteuerung verwendet werden. TOKYO ELECTRON Telius SP 308QS ist mit fortschrittlichen Funktionen zur Prozessüberwachung und Datenerfassung ausgestattet, die eine Analyse der Prozessausbeute ermöglichen. Es verfügt über einen hochpräzisen Ionenmonitor, der einen konsistenten und wiederholbaren Ätzprozess gewährleistet. Der Ätzer verfügt auch über eine erweiterte Grafikprozessoreinheit, die eine höhere Leistung während des Durchsatzes ermöglicht und gleichzeitig eine hochwertige Datenausgabe bietet. Telius SP 308QS ist eine hochentwickelte Ätzmaschine, die zuverlässige, wiederholbare Ätzergebnisse mit bemerkenswerten Durchsatzgeschwindigkeiten liefert. Das innovative Design und die fortschrittlichen Technologien machen es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Ätzanwendungen.
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