Gebraucht ASM IBE 139 #293637824 zu verkaufen

ASM IBE 139 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für Hersteller von hochvolumigen Halbleitern. Das System basiert auf einem Wafer-Mapping-Layout-Algorithmus, der es ermöglicht, viele Elemente gleichzeitig genau abzubilden und zu inspizieren, wie z.B. elektrostatische Entladungstomographiebilder (ESD), Fotomasken-Fehlerinspektionsbilder, Kartierung von Stempelstellen. Das Gerät verfügt über mehrere neuartige Merkmale, die es für verschiedene Anwendungen wie Serienfertigung, Fehleranalyse und Fehlerlokalisierung geeignet machen. ASM IBE139 Maschine besteht aus zwei Hauptkomponenten. Die erste Komponente ist das Interface Module, das eine Bildaufnahmekamera, Strahlteiler, Mikroskope, eine CPU und eine Bildverarbeitungseinheit umfasst. Dieses Modul ist mit der Bildvorverarbeitung DSP zur hochauflösenden Bildgebung und Fehlererkennung auf dem Wafer verbunden. Die zweite Komponente ist das Imaging & Pattern Generation Module, das eine benutzerdefinierte proprietäre Software verwendet, die die Bildgebung und Fehlererkennung auf der Halbleiterscheibe steuert. Die Software verwendet einen Mustererkennungsalgorithmus, um Fehler zwischen den Überwachungsschritten schnell zu klassifizieren und etwaige Auffälligkeiten zu identifizieren. Die Software kann auch verwendet werden, um erweiterte Analysen der Bilder durchzuführen und detaillierte statistische Berichte zu erstellen. IBE 139 unterstützt hochauflösende Bildgebung und kann bis zu 2.000 Punkte pro Wafer abbilden. Es verwendet infrarote und blaue Lichtquellen und erkennt Fehler in pixelförmigen Bildern. Die Anlage ist auch mit hochauflösenden Mikroskopen ausgestattet, die sowohl 2D- als auch 3D-Bildgebung und Fehlererkennung ermöglichen. Darüber hinaus ist das Stereo-Vision-Modell in der Lage, Fehler in drei Dimensionen zu erkennen und zu verarbeiten. Neben der Bildgebung bietet die Ausrüstung verschiedene weitere Funktionen. Es kann elektrostatische Entladung, Fotomasken-Fehlerinspektion, Kartierung von Stempelstellen sowie Hotspots, Burn-in und andere Fehlerereignisse identifizieren, messen und charakterisieren. Das System kann auch zum Codieren, Verfolgen, Maskieren und Wiederherstellen der Daten eines Wafers verwendet werden. Es unterstützt die SIMS-Analyse, die zur detaillierten Charakterisierung der Defekte des Wafers verwendet werden kann. Darüber hinaus kann es Bilder in Echtzeit reproduzieren, so dass online visuelle Inspektion für maximale Genauigkeit ermöglicht. Das Gerät enthält auch eine Bibliothek mit Standardbildern zum Vergleich und verfügt über einen schnellen Lernalgorithmus, um eine schnelle Mustererkennung zu ermöglichen. Schließlich verfügt die Maschine über eine hochgradig anpassbare Benutzeroberfläche, mit der Benutzer ihre Einstellungen nach Bedarf konfigurieren können. Es ist vorteilhaft für große Mengen, die Benutzer führen, um den Schwellenwert und andere Inspektionsparameter einzustellen, damit Daten schnell klassifiziert werden können. Insgesamt bietet IBE139 Tool eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektionslösung. Es bietet hochauflösende Bildgebungsfunktionen und erweiterte Mustererkennungsfunktionen, um Fehler schnell und genau zu überprüfen und zu identifizieren. Darüber hinaus verfügt es über eine anpassbare Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die Einstellungen des Assets an ihre individuellen Anforderungen anpassen können.