Gebraucht ASM IBE 139 #9069578 zu verkaufen

ASM IBE 139 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein Hochleistungs-Bildgebungssystem, das entwickelt wurde, um Echtzeit-Inline-Inspektionsanwendungen durchzuführen. ASM IBE139 baut auf ASM-Expertise im Bereich der Fehlererkennung und der globalen Messtechnik auf, um Fehler in kritischen, nicht standardmäßigen Maskenfunktionen während der Inline-Produktion genau zu erkennen und zu messen. Das Gerät ist mit erweiterten bildgebenden Mapping- und Fehlererkennungsfunktionen ausgestattet, einschließlich 6-Sigma-3D-Querschnittsansichten und parametrischer Analyse, die die Überwachung wichtiger Produktionsparameter ermöglichen. Die Maschine verfügt auch über ein integriertes visuelles Inspektionswerkzeug, das in der Lage ist, sehr kleine Merkmale wie Mikroladen und Mehrschichtfehler zu erkennen. IBE 139 verfügt über eine Reihe spezialisierter digitaler Bildgebungssensoren, die Bilder verschiedener Seitenverhältnisse und Blickfelder schnell und genau erfassen, um selbst kleinste Fehler in der Reflexion schnell und genau zu erkennen. Das Asset ist auch in der Lage, Variationen in einer Reihe von verschiedenen Materialien und Mustern zu messen, die verwendet, gefunden und analysiert werden können. IBE139 Wafer-Inspektionsmodell ist einzigartig entworfen, um eine Feinkontrolle während der Test- und Fehlerphasen der Formgebung zu ermöglichen, um sicherzustellen, dass die ausgegebenen Produkte die gewünschten Designkriterien erfüllen. Es verwendet fortschrittliche digitale Mikroskopietechniken, um jeden Durchgang der Maskenverarbeitung zu überwachen, die Ausrüstung ist in der Lage, Masken und Wafer zu erkennen, die vom gewünschten Design abweichen. Das System wurde entwickelt, um minimale Defekte, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Kontamination, Ätzschäden, unkontrollierte Gaskonzentrationen, Photomaskendefekte und Kontamination unter der Photomasken- oder Photoresistschicht, genau zu erkennen und zu messen. Die Einheit verwendet statistische Prozesskontrolltechniken, um nicht standardmäßige Maskenfeatures zu messen. Die Optik bietet eine weiß/klare Lichtquelle für Lichtaufnahmen und Laserlichtquellen zur Schattenunterdrückung für eine Vielzahl von Probenteilen. ASM IBE 139 Wafer Inspection Machine unterstützt auch Differential Focus Imaging (DFI), in der Lage, Oberflächenreinheit und Verformung zu erkennen. ASM IBE139 Mask & Wafer Inspection Tool wurde entwickelt, um den Betreibern eine einfache und effiziente Möglichkeit zu bieten, eine Vielzahl von kritischen Teilen zu überprüfen. Mit seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle, der hochauflösenden Bildgebung und den überlegenen messtechnischen Fähigkeiten gehört IBE 139 zu den besten, die für hochpräzise Inline-Inspektionsanforderungen zur Verfügung stehen.