Gebraucht ASM IBE 139 #9266246 zu verkaufen

ASM IBE 139 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Inspektion von Retikeln und Wafern, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Es verwendet ein empfindliches, Hochgeschwindigkeits-Abtastsystem, das zur Erkennung von Fehlern auf Partikelebene und Problemen mit Ungleichmäßigkeit sowohl in herkömmlichen als auch in extremen ultravioletten (EUV) Masken- und Waferbildern entwickelt wurde. Das Gerät besteht aus zwei Komponenten: einer Inspektionsoptik, in der die Projektionslinsenmaschine und die Inspektionssoftware untergebracht sind. Das Projektionsobjektiv besteht aus einem DUV-Objektiv, Distanzobjektiven und einer Bildaufnahmekamera. Mit der DUV-Linse wird ein gleichmäßiges und unverzerrtes Bild des Musters auf der zu inspizierenden Maske oder Wafer erzeugt. Die Abstandslinsen können das Bild vergrößern und an das Sichtfeld des Scanobjekts anpassen. Die Bildkamera erfasst das Bild und kann partikelgroße Defekte erkennen. Die Inspektionssoftware besteht aus mehreren algorithmischen Modulen, die jeweils zur Erkennung verschiedener Arten von Fehlern und Ungleichmäßigkeitsproblemen entwickelt wurden. Dazu gehören Kalibriergenauigkeitsunterschiede, Linienbreite und Fehlererkennung. Die Software ist automatisiert und hat die Fähigkeit, Fehler in mehreren Maskenstufen zu erkennen. Es verwendet auch Mustererkennungstechnologie, die kleine Partikelfehler erkennen kann. Die Software ist benutzerfreundlich gestaltet und umfasst Berichts- und Datenexport-Funktionen. ASM IBE139 ist ein fortschrittliches Inspektionsmodell. Es wurde entwickelt, um Partikeldefekte in einer Vielzahl von Masken- und Waferanwendungen zu erkennen. Die Hochgeschwindigkeits-Scanfunktionen und die automatisierten Erkennungsalgorithmen bieten eine fortschrittliche Lösung zur Optimierung der Prozesseffizienz und Qualitätskontrolle. IBE 139 ist eine wirtschaftliche Lösung, die ein wesentliches Werkzeug für die Halbleiterherstellung bietet.