Gebraucht ASM IBE 139 #9396619 zu verkaufen

ASM IBE 139 Maske und Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Werkzeug, das es Halbleiterherstellern ermöglicht, Fehler in ihren Produkten schnell und genau zu erkennen und zu identifizieren. Die spezialisierten optischen und elektronenmikroskopischen Techniken des Systems ermöglichen die Beobachtung geometrischer Details auf Ebenen, die mit bloßem Auge nicht sichtbar sind, und eine einzigartige bildbasierte Fehlererkennung ermöglicht eine schnelle automatisierte Erkennung von Defekten in Photomasken und Wafern. Die Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten: der optischen Abbildungsstufe und der Elektronenbildungsstufe. Die optische Abbildungsstufe bietet Beleuchtungs-, Bildgebungs- und Detektionsmöglichkeiten mit einer Digitalkamera. Es ist in der Lage, optische Funktionen bis zu 1000x zu vergrößern, so dass die hochauflösende Bildgebung erforderlich, um Fehler zu identifizieren. Zusätzlich ist die optische Abbildungsstufe mit einem vollfarbigen Digitalkamerasensor mit einfarbigen CCD-Funktionen ausgestattet. Dadurch kann die Maschine Bilder schnell und präzise in Farbe und einfarbig aufnehmen. Die Elektronenabbildungsstufe besteht aus einem innovativen Elektronenstrahlinspektionswerkzeug (EBIS) und einem Rasterelektronenmikroskop (SEM) mit zugehörigen Komponenten. Das EBIS dient zur Erfassung von Fehlerbildern und zur Erzeugung von Mikrographen zur Fehlererkennung. Es ist mit einem Elektronenstrahlabtastgerät (EBS) und einem vollautomatischen Fehlerklassifizierungsprozess ausgestattet. Das Modell ist in der Lage, Bilder aus extrem kleinen Bereichen zu erfassen und so klein wie wenige Nanometer zu messen, so dass auch kleinste Fehler genau erkannt werden können. Das SEM hingegen liefert elektronenoptische Bilder mit Vergrößerungen bis 50.000x. Es ist mit einer automatisierten Fehlererkennungsanlage ausgestattet, die eine breite Palette von Fehlern identifizieren kann, von Oberflächen- und Unterflächenmerkmalen bis hin zu Linienfehlern und offenen/kurzen Fehlern. Darüber hinaus ist ASM IBE139 Mask and Wafer Inspection System auch mit einer Reihe von Datenanalyse-Softwareprogrammen, wie dem bekannten ImageJ, kompatibel. So können Anwender Bilder aus der optischen und elektronischen Bildgebung schnell und einfach kombinieren und in einer Datenbank für zukünftigen Zugriff und Analyse speichern. ASM bietet auch eine Online-Datenbank mit gängigen Substratmaterialien und deren entsprechenden optischen Parametern, wodurch Benutzer die entsprechenden Einstellungen für jede Probe leicht erkennen können. IBE 139 Mask and Wafer Inspection Unit ist ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug, das die Erkennung und Analyse von Defekten in Halbleiterprodukten erleichtert. Mit seinen hochauflösenden Bildgebungsfunktionen und automatisierten Fehleridentifizierungssystemen können Benutzer Fehler schnell und genau erkennen und klassifizieren. Darüber hinaus macht seine Kompatibilität mit Software-Programmen von Drittanbietern sowie seine umfangreiche Substratdatenbank es zu einem wertvollen Kapital für jeden Halbleiterhersteller.