Gebraucht ASM OB 139SC #9286498 zu verkaufen

ASM OB 139SC Machine Vision Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein auf Bildverarbeitung basierendes automatisiertes System, das eine genaue, wiederholbare Inspektion der Masken- und Waferfertigung ermöglicht. Es integriert eine fortschrittliche hochauflösende Bildverarbeitungseinheit mit einer leistungsstarken Mehrkernarchitektur zur schnellen und genauen Identifizierung von Herstellungsfehlern mit bis zu 4,5 μ m Detailauflösung. Die Maschine ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche für eine schnelle Einrichtung und effiziente Bedienung optimiert und bietet hervorragende Bildqualität und Auflösung, um ein umfassendes Verständnis der Geräteparameter zu erhalten. OB 139SC Machine Vision Mask und Wafer Inspection Tool beinhaltet eine intelligente Software-basierte Bildverarbeitungsplattform, die für mehr Geschwindigkeit und Genauigkeit sorgt. Es integriert eine einzigartige Architektur mit hoher Bildauflösung, die klare und detaillierte Bilder von Masken- und Waferstrukturen in Echtzeit liefert. Auf diese Weise können Benutzer Partikelfehler, Linienbreitenvariationen, Musterfehlstellungen und andere lithographische Inkonsistenzen in der Masken- und Waferstruktur erkennen, ohne Parameter anpassen zu müssen. Das Asset ermöglicht auch die Kompensation von Bildeinstellungen wie Kontrast, Helligkeit usw., ohne jeden Parameter manuell eingeben zu müssen. Die Softwareplattform des Modells nutzt eine Reihe leistungsfähiger Verarbeitungswerkzeuge, mit denen Benutzer Masken- und Waferbilder schnell auf mögliche Fehler überprüfen können. Es verfügt über einen integrierten Speicher von bis zu 2 GB, so dass Benutzer ihre Daten zur Offline-Inspektion speichern und ihre Bilder innerhalb des Geräts bearbeiten können. Es unterstützt auch die Echtzeit-Anzeige von Bildern von einem angeschlossenen Host-PC und unterstützt sowohl Ethernet- als auch USB-Verbindungen. ASM OB 139SC Machine Vision Mask und Wafer Inspection System wurde entwickelt, um die Prozessleistung und Qualitätskontrolle zu erhöhen. Dank seiner automatischen Analyse- und Berichtsfunktionen können Fehler leicht erkannt und behoben werden, während Benutzer potenzielle Prozessmängel erkennen, Zeit sparen und die Kosten für die Prozesskontrolle langfristig reduzieren können. Es ist auch mit einer Fernüberwachungsfunktion ausgestattet, so dass Benutzer die Maschinenleistung über lange Zeiträume leicht verfolgen können. Insgesamt ist die OB 139SC Machine Vision Mask and Wafer Inspection Unit ein leistungsfähiges und sicheres Werkzeug für die Herstellung von Masken und Wafern. Es bietet Benutzern eine genaue und wiederholbare Erkennung von Fehlern sowie eine breite Palette von Analysefunktionen, um Probleme zu identifizieren und zu beheben.