Gebraucht ASM TLB 139 #9299727 zu verkaufen

ASM TLB 139 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Das System verwendet fortschrittliche Werkzeuge zur Fotomasken- und Waferinspektion, um Fehler in Maske und Wafer für höhere Ausbeute zu erkennen. TLB 139 ist mit einer automatisierten Active Segmentation-Fähigkeit zur intelligenten Fehlererkennung ausgestattet. Diese Funktion ermöglicht eine hochgenaue Identifizierung von Defekten mit genauen Klassifizierungen, die von globalen Defekten, Kantenfehlern, Ockerfehlern, Tan-Defekten und Line Edge Roughness reichen. Das Gerät ist auch mit einer optischen Pinzette ausgestattet, mit der die Maschine Geräte, Fehlerklassifizierungen und andere Parameter auf mehreren Inspektionsfeldern messen kann. ASM TLB 139 verwendet ein optisch verbessertes Maskenmustererkennungswerkzeug. Dieses Asset verwendet ultrahochauflösende Bildgebungstechnologie, um Fehler an den Masken und Wafern zu erkennen und zu isolieren, auch solche, die zu klein für das bloße Auge sind, um sie zu erkennen. Es verwendet auch Algorithmen zur Kontrastverbesserung, mit denen das Modell Fehler aufdecken und isolieren kann. TLB 139 verfügt über eine Vielzahl zusätzlicher Funktionen, wie seine digitale Pixelverbesserung, True Color Display, Data Fusion Process, High-Resolution und Ultra-High-Resolution Capture und erweiterte Wavefront Measurement Fähigkeiten. Zusammen ermöglichen diese Funktionen dem Gerät eine hohe Genauigkeit. ASM TLB 139 ist zudem mit einem fortschrittlichen vollautomatischen Workflow ausgestattet. Dies ermöglicht einen unbeaufsichtigten Betrieb der Geräte und erhöht die Effizienz weiter. Das System verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und ist mit mehreren Softwareprogrammen kompatibel, wodurch die Bedienung der Einheit einfach zu bedienen ist. TLB 139 ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Inspektion von Masken und Wafern mit hochgenauen Ergebnissen. Seine erweiterten aktiven Segmentierungsfunktionen und optisch verbesserte Maskenmustererkennungsmaschine helfen, Fehler zu identifizieren und zu isolieren, auch solche, die zu klein sind, um das bloße Auge zu erkennen. Der fortschrittliche Workflow und die intuitive Benutzeroberfläche machen es einfach zu bedienen und von großem Wert für die Halbleiterproduktion.