Gebraucht KLA / TENCOR 2920 #9375410 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2920 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die klare und genaue Bilder der kritischen Merkmale auf Masken und Wafern sowie der Fehleranalyse liefert. Es verfügt über ein hochauflösendes digitales Bildgebungssystem und eine hochmoderne Software zum Bildvergleich und -analyse. Die Einheit bietet höhere Empfindlichkeit und Genauigkeit für die Maske und Oblateninspektion mit seiner mit der fortgeschrittenen Mehrfrequenzstreuungsabtastungsoptik verbundenen EigentumsrapidImageSource™-Bildaufbereitungsmaschine an. Es kann zur automatisierten Inspektion von kritischen Merkmalen und Defekten für nachgeätzte Wafer, Photomasken und beleuchtete Maskenziele verwendet werden. Die KLA 2920 ist mit einem hochauflösenden digitalen Bildgebungstool ausgestattet, das ein Bildaufnahmegerät, eine Bildvergleichs- und Analysesoftware sowie ein Positionierungsmodell umfasst. Die bildgebende Ausrüstung verwendet einen einzigartigen Streulichtstrahl und eine hochempfindliche CCD-Kamera, um klare und genaue Bilder der kritischen Merkmale auf Masken und Wafern zu erfassen. Die Mehrfrequenz-Streuoptik ermöglicht es der Abbildungseinheit, Bilder mit einer Auflösung von 40 nm zu erfassen. Diese Maschine ist optimiert, um kleine Fehler zu erkennen und bestimmt deren Größe, Form, Position und Orientierung. Die Analysesoftware kann dann Mustererkennung, Bildverbesserung und automatische Fehlerklassifizierung durchführen. Das Werkzeug verfügt auch über einen erweiterten Positionierungsmechanismus für genaue Probenabtastung. TENCOR 2920 verfügt auch über verbesserte Prozesssteuerungsfunktionen. Es kann den gesamten Prozess von der Inbetriebnahme bis zur Diagnose überwachen, den Durchsatz, die Wiederholbarkeit und die Qualitätskontrolle verbessern. Das Asset kann automatisch detaillierte Berichte erstellen und Echtzeitdaten zur Prozessoptimierung und Korrekturmaßnahmen bereitstellen. 2920 ist ein zuverlässiges und vielseitiges Modell für die Masken- und Waferinspektion. Es bietet überlegene Bildgebungsfunktionen, verbesserte Prozesskontrollfunktionen und erweiterte Analysesoftware für maximale Genauigkeit bei der Fehlererkennung. Dieses Gerät bietet kostengünstige Lösungen für die strukturierte Wafer-, Fotomasken- und Beleuchtungsmaskeninspektion.