Gebraucht NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT CDS 200 #9105488 zu verkaufen

NANOMETRICS/BIO-RAD/ACCENT CDS 200 ist eine hochleistungsfähige, fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die den anspruchsvollsten Masken- und Wafer-Inspektionsanforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Das System ist in der Lage, Masken mit Auflösungen von 5 Mikrometern und Wafermustern mit Auflösungen von 0,1 Mikrometern zu inspizieren und kann bis zu 16x Vergrößerung für größere Muster bereitstellen. Es verfügt über einen hohen Durchsatz von 720 Bildern pro Stunde sowie eine automatische Bildübertragungseinheit für eine schnelle Auftragseinrichtung und Bildverarbeitung. Die Maschine basiert auf einer Windows-basierten Plattform mit einer benutzerfreundlichen grafischen Oberfläche, die eine breite Palette von benutzerdefinierten Inspektionsparametern ermöglicht. Es hat die Fähigkeit, gemeinsame Oberflächenfehler wie Partikel, Rückstände und Kratzer sowie strukturelle Defekte, einschließlich fehlender und überdimensionaler Objekte, zu erkennen. Darüber hinaus kann das Werkzeug verwendet werden, um Dunkelfelddefekte, wie Mikrorauheit und Verbindungsfehler, zu erkennen. Die ACCENT CDS 200 implementiert auch ein Multi-Channel-Setup und kann an eine Vielzahl von Kundenanforderungen angepasst werden, darunter automatisierte visuelle Inspektion, automatisierte Oberflächeninspektion, automatisierte 3D-Inspektion, automatisierte optoelektrische Inspektion und automatisierte Werkzeugscherinspektion. BIO-RAD CDS 200 verfügt über ein voll integriertes Kamera-Asset mit hochauflösenden Bildgebungsfunktionen und einer automatischen Bildaufnahme und Nähfähigkeit. Darüber hinaus verfügt das Modell über einen einzigartigen multidirektionalen Mustererkennungsalgorithmus, der kleine Fehler genau erkennen kann. NANOMETRIE CDS 200 ist in der Lage, Rückmeldungen zu erkannten Fehlern zu liefern, was eine genaue Fehlercharakterisierung und -klassifizierung ermöglicht. Die Geräte verfügen zudem über ein hochmodernes Kontrollsystem, das sicherstellt, dass die geprüften Masken und Wafer mit höchsten Qualitätsstandards hergestellt werden. Das System bietet Rückverfolgbarkeit und Echtzeit-Überprüfungsfunktionen sowie konfigurierbare Workflow-gesteuerte Funktionen für eine einfache Bedienung. Darüber hinaus gewährleistet das Gerät die Einhaltung einer Vielzahl von Standards, einschließlich der SEMI D10 und SEMI F50 Standards. CDS 200 enthält auch eine komplette Reihe von Software-Tools zur Bildanalyse und Fehlererkennung, die eine schnelle Fehlerdiagnose ermöglichen. Die Maschine wurde entwickelt, um hohen Durchsatz und Genauigkeitsanforderungen in einer Vielzahl von Anwendungen zu erfüllen, einschließlich Wafer- und Maskenherstellung, Fotodefekterkennung, Maskenmessung und -korrektur und spezialisierte Produktinspektion.