Gebraucht NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT Q8 #9305629 zu verkaufen

ID: 9305629
Weinlese: 1997
Overlay metrology system (2) Send and receive cassette elevators, 5"-8" FPAS Pre-alignment system XYZ Stage with wafer chuck, 8" Stage fiducial Objective lenses: 3.5x, 30x and 70x (2) COHU 6700 Series CCD Cameras XENON X-18 Lamp house System controller with UNIX based operating system VME Rack with FORCE ELECTRONICS SYS68K CPU-30BE/16 CPU Digital tape backup Floppy disk drive, 3 ½" SECS / GEM Communication CE Marked 1997 vintage.
NANOMETRIE/BIO-RAD/ACCENT Q8 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die entwickelt wurde, um den Prozess der Inspektion von Photomasken und Wafern auf Fehler und Prozessfehler zu automatisieren. Das System basiert auf einer modernsten optischen Bildgebungstechnologie, die eine intensitätscodierte Musterbeleuchtung mit fortschrittlichen Datenerfassungsmethoden nutzt. Mit Hilfe innovativer Algorithmen ist ACCENT Q8 in der Lage, eine Photomaske oder Waferoberfläche schnell zu scannen und kleine Fehler zu erkennen, die mit bloßem Auge möglicherweise nicht sichtbar sind. Dadurch wird sichergestellt, dass jedes Produkt, das vom Band geht, vom höchsten Qualitätsstandard ist. Das Gerät ist auch in der Lage, globale oder lokale Oberflächeneigenschaften des geprüften Materials zu messen. Dieser Prozess wird mit mehreren verschiedenen Technologien durchgeführt, die alle zusammenarbeiten, um detailliertes Feedback über das Stück zu geben. Dazu gehört die Bestimmung der Dicke oder Dünnheit des Materials, der Kantenwinkel, der Textur und anderer Oberflächeneigenschaften. Die Maschine bietet auch eine Vielzahl von kundenspezifischen Datenausgabeoptionen, mit denen Benutzer die Ergebnisse ihres bildgebenden Betriebs aus verschiedenen Perspektiven analysieren können. Auf diese Weise kann der Benutzer die beste Handlungsroute bestimmen, die er im Umgang mit einer bestimmten Prozessungleichförmigkeit ergreifen kann. Zusätzlich zu seinen bildgebenden und messenden Fähigkeiten wurde BIO-RAD Q8 entwickelt, um den gesamten Prozess der Masken- und Waferinspektion zu optimieren. Das Tool unterstützt den vollautomatischen Betrieb mit Vor- und Nachbearbeitungsschritten, die vom Asset selbst übernommen werden. Dadurch wird sichergestellt, dass der bildgebende Prozess möglichst schnell und effizient abläuft. Insgesamt ist NANOMETRICS Q8 Maske und Wafer Inspektionsmodell entworfen, um den Prozess der Inspektion von Photomasken und Wafern auf Prozessfehler zu revolutionieren. Diese fortschrittliche Bildgebungstechnologie bietet ein leistungsstarkes Werkzeug zur Verbesserung der Produktqualität und zur Senkung der Produktionskosten. Dank der flexiblen Datenausgabeoptionen und der automatisierten Betriebsunterstützung können Anwender ihre Effizienz maximieren und sicherstellen, dass keine defekten Teile die Produktionslinie unbemerkt verlassen. Mit Q8 können Anwender auf die Qualität ihrer fertigen Produkte vertrauen.
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