Gebraucht AIT VRS-150 #293648375 zu verkaufen

AIT VRS-150
Hersteller
AIT
Modell
VRS-150
ID: 293648375
System.
AIT VRS-150 ist eine vollautomatische Waferbearbeitungsanlage zur Durchführung von Einzel- und Multi-Pass-Prozessen für SiC-SiO2, Si LPCVD und Polysilizium-Abscheidung sowie Ätzen und Strippen. Seine fortschrittlichen softwaregesteuerten Prozesse sind in der Lage, mit minimalen Batch-to-Batch-Variationen eine überlegene Abscheidung und Ätzgleichmäßigkeit zu erreichen. Das System ist mit einem Multistation-Pre-Aligner, einem Wafer-Lifter und einem Wafer-Pre-Aligner ausgestattet, um eine präzise Handhabung der Wafer zu gewährleisten. Darüber hinaus umfasst die Einheit mehrere Vakuumkammertüren, die jeweils mit der Haupt-Maschinentür verriegelt sind und zusätzliche Sicherheit und einen redundanten Prozess bieten. Das Werkzeug ist mit drei einzelnen Lastschlössern integriert, die jeweils bis zu 150 mm Wafer tragen, was Ein- und Mehrpassverfahren ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Asset über einen hochauflösenden He-Strahl-Strommonitor zur präzisen Steuerung des PECVD-Prozesses. VRS-150 ist mit einer kritischen Prozesssteuerung konzipiert, die dazu beiträgt, durch Prozessvariabilität verursachte Ertragsverluste zu reduzieren. Es ist mit mehreren Drucksensoren, Temperatursensoren und einem Quarzkristall-HF-Controller integriert. Darüber hinaus umfasst das Modell einen Vier-Zonen-Suszeptor-Lift und eine Suszeptor-Neigungskontrolle, um eine hohe Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Folie zu gewährleisten. Um einen sicheren Betrieb der Ausrüstung zu gewährleisten, ist AIT VRS-150 mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie einem Not-Aus-Knopf, einer Gassicherheitsabschaltung und einem Gassicherheitsreset ausgestattet. Darüber hinaus ist das System mit einer Gasüberwachungseinheit für Prozesssicherheit und gefährliche Gasüberwachung konzipiert, die einen sichereren Betrieb in kritischen Verarbeitungsumgebungen ermöglicht. Insgesamt ist VRS-150 eine robuste und zuverlässige Waferbearbeitungseinheit, die zuverlässige Ein- und Mehrpassverfahren für SiC-SiO2, Si-LPCVD und Polysiliziumabscheidung sowie Ätz- und Strippverfahren bereitstellen kann.
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