Gebraucht ALLEN BRADLEY 2711 E T12 C6 #112632 zu verkaufen

ALLEN BRADLEY 2711 E T12 C6
ID: 112632
Panelview Programmable Logic Controller.
ALLEN BRADLEY 2711 E T12 C6 ist eine Bearbeitungsanlage auf Waferebene, die für die Herstellung von Wafern mit hoher Geschwindigkeit und Präzision ausgelegt ist. Es ist mit modernsten Verarbeitungsfunktionen ausgestattet, die sowohl die vollflächige als auch die parallele Waferfertigung unterstützen. Das System verfügt über eine Reihe von Funktionen, die für die Hochgeschwindigkeitsproduktion optimiert sind und die beste Qualitätssicherung und Zuverlässigkeit bieten. Das Gerät verfügt über eine hochwertige, niedrige Stromversorgung mit einem schnellen Scanweg, der eine schnellere und genauere Herstellung von Wafern ermöglicht. Die Maschine ist in der Lage, 0.1u-Ebene Aufzeichnungsgenauigkeit zwischen der Fotomaske und dem eigentlichen Substrat, hilft, gleichbleibend hochwertige Teile über langfristige Fertigungsoperationen zu gewährleisten. 2711 E T12 C6 ist der Schlüssel zur Serienreife und bietet überlegene Leistung in allen Arten von Lithographieanwendungen. Das vielseitige und zuverlässige Design des Werkzeugs ermöglicht eine Reihe von Anwendungen mit hoher Produktivität, einschließlich vollflächiger Wafer-Lithographie, 3D-Wafer-Level-Verpackung, Bump/Spacer/via Formation, isothermer Verarbeitung und Submikron-Kontaktbildung. Das Asset bietet darüber hinaus eine breite Palette von Prozessautomatisierungstools, die eingesetzt werden können, um Kosten zu senken und die Produktionseffizienz zu verbessern. Zu diesen Tools gehören fortschrittliche Softwaretools für die statistische Prozesskontrolle, Verfolgbarkeit und automatisierte Berichtsgenerierung. Schließlich wurde das Modell entworfen, um höchste Sicherheit zu gewährleisten, mit Funktionen wie einer sicherheitszertifizierten Kamera, um sicherzustellen, dass der richtige Wafer korrekt in der Ausrüstung ist, sowie einem Not-Aus-Knopf und Anti-Proben-Funktionen. Diese Funktionen tragen alle dazu bei, einen sicheren und zuverlässigen Wafer-Level-Verarbeitungsvorgang zu gewährleisten.
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