Gebraucht APL ADS-200 #9280974 zu verkaufen

APL ADS-200
Hersteller
APL
Modell
ADS-200
ID: 9280974
System.
APL ADS-200 ist eine fortschrittliche Waferbearbeitungsanlage zur epitaktischen Abscheidung, die in hochmodernen Forschungseinrichtungen und Laboratorien eingesetzt wird. Sein Design ermöglicht eine hohe Produktivität und präzise Steuerung für reproduzierbare Ergebnisse. Die Hauptkomponenten des Systems sind eine Abscheidekammer, eine Kochplatte, eine Pumpe und ein Auspuff sowie ein Wafertransportmechanismus. Die Kammer ist mit einer beheizten Randeinheit und einem Mechanismus zur präzisen Steuerung der Abscheiderate ausgestattet. Die Heizmaschine sorgt für eine gleichmäßige Filmabscheidung über dicke und dünne Wafer. Die Kammertemperatur kann über einen weiten Bereich geregelt werden, was eine genaue Abstimmung der Eigenschaften des abzuscheidenden Materials ermöglicht. Das Auspuffwerkzeug ist für maximalen Wirkungsgrad und minimale Partikelerzeugung ausgelegt. Die Kochplatte weist einen einstellbaren Temperaturbereich auf, der die Herstellung einheitlicher Substrate zur epitaktischen Abscheidung ermöglicht. Es kann auch zur thermischen Nachbehandlung oder zur Herstellung von Dünnfilmbändern verwendet werden. Das Wafertransportmittel ermöglicht das automatische Beladen der Wafer mit der Kammer. Es ist für hohen Durchsatz ausgelegt und kann bis zu 50 Wafer gleichzeitig aufnehmen. Das Modell ist einfach zu bedienen und ermöglicht die Automatisierung mit einem Controller und Software. Die Steuerung unterstützt sowohl den manuellen als auch den automatischen Betrieb. Im manuellen Modus können Parameter wie Abscheiderate, Temperatur und Dicke direkt eingestellt werden. Im Automatikmodus können bis zu acht verschiedene Rezepte der Misch- und Elementabscheidung angepasst werden. Auf diese Weise kann der Anwender die Eigenschaften des Films, den er auf einen Wafer aufbringt, vorbestimmen. ADS-200 ist eine äußerst zuverlässige und robuste Ausrüstung, die für maximale Leistung in einer Reihe von Forschungs- und Laborumgebungen ausgelegt ist. Mit seiner beispiellosen Kontrolle und Präzision über eine Vielzahl von Faktoren ist es das ideale Werkzeug für fortgeschrittene Waferbearbeitungsaufgaben.
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