Gebraucht AQUEOUS TECH Zero-ion #293657416 zu verkaufen

WÄSSRIGE TECHNOLOGIE Zero-Ion ist eine fortschrittliche Waferätz- und Dotierverarbeitungsanlage, die von Aqueous Technologies Corp, einem führenden Anbieter von Produkten für die Halbleiterverarbeitung, entwickelt wurde. Es verwendet eine Zero-Ion-Technologie, um Wafer ohne den Einsatz von Ätz- und Dotiergasen zu ätzen und zu dotieren, die hochpräzise und ultrahochreine Wafer produzieren können. Diese Technologie wurde entwickelt, um extrem präzise Waferätz- und Dotierungsverfahren für kritische elektronische Geräteanwendungen bereitzustellen. WÄSSRIGES TECH Zero-Ion-System ist mit einer patentierten Abscheide- und Ätztechnologie ausgestattet, die eine extrem hohe Auflösung und präzise Waferbearbeitung ermöglicht. Es hat eine breite Palette von Prozessparametern, die leicht eingestellt und angepasst werden können, um die Kundenanforderungen zu erfüllen. Das Gerät wird auch mit einer fortschrittlichen Probenahmemaschine geliefert, die Präzision und wiederholbare Leistung gewährleistet. Das Werkzeug bietet auch eine breite Palette von Transferfunktionen und Optionen wie elektrische, mechanische und chemische. Der Waferätzprozess unter Verwendung von Zero-Ion Asset beinhaltet zunächst die Vorreinigung des Wafers mit einer Lösungsmittelreinigungslösung. Anschließend wird ein Plasma mit einer Quelle eines geeigneten Gases erzeugt, das dann zur Entfernung der Oberflächenverunreinigungen verwendet wird. Es folgt ein Naßätzprozeß, der in einer flüssigen Lösung durchgeführt wird. Der Wafer wird dann erhitzt, um organische Rückstände zu entfernen und die Grenzflächenreinigung durchzuführen. Es folgt ein Leerstandsausgleich und eine Aktivierung von Dotierstoffen, um gewünschte Eigenschaften auf dem Wafer zu erzielen. Die Dotierung der Wafer unter Verwendung des WEOUS TECH Zero-Ion-Modells basiert auf einem chemischen Aufdampfverfahren, gefolgt von einem Ätzprozess mit einem geeigneten Gas. Es wird eine chemische Reaktion gestartet, die einen dünnen Film auf dem Wafer liefert. Für den Dotierungsvorgang wird dann ein Quellgas verwendet und Plasma zur Dotierung des Wafers erzeugt. Nach Beendigung des Dotierungsprozesses wird die Struktur der Folie auf die Eigenschaften des Wafers angepasst. Die Zero-Ion-Ausrüstung gewährleistet eine hohe Präzision und Wiederholbarkeit der Ätz- und Dotierungsprozesse. Bekannt ist es auch für sein exzellentes Wärmemanagementsystem sowie seine Kompatibilität mit verschiedenen Prozessgasen. Zusätzlich ist WÄSSRIGE TECH Zero-Ionen-Einheit in der Lage, die gewünschte Qualität in kürzester Zeit zu liefern. Dies macht es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet, einschließlich der Herstellung integrierter Schaltungen.