Gebraucht GREATSENSE GS-AIR-7 #293670957 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 293670957
System
Capacity:
Down line and space: 7 µm
Copper thickness/space: ≤ 1.6
Materials:
Substrates: FR4, FR5, BT, PI, ABF
Thickness of substrate: 20 µm
Thickness of copper: 0-50 µm
Efficiency:
Copper thickness: 18 µm
Defect size: 40 x 10 µm²
Time: 30 sec
Connectivity:
ORBOTECH
CIMS
Machvision
YMZ AOI
GREATSENSE AVI
Informational functions:
QR Code reading functions
Reports
MES
Defect maps / Heat maps
Board size: 760x680 mm²
Board thickness: 50-10000 µm
Penetration to laminate: ≤5 µm
Deviation from normal line width: ≤ ±10%
Re-inspection magnification: 25X-400X
Available with customer-specific automation functions
Power supply: 220 V, 4.5 kW.
GREATSENSE GS-AIR-7 ist eine Waferbearbeitungsanlage für eine Reihe von industriellen Anwendungen. Es verwendet eine atmosphärische Plasmabearbeitungstechnologie (APP), um einen hohen Grad an Waferoberflächenvorbereitung und -reinigung zu erreichen. Dieses System bietet eine einzigartige Kombination von abstimmbaren Plasmaparametern und ist damit ein bevorzugtes Werkzeug für Benutzer. GS-AIR-7 verfügt über einen automatisierten Inbetriebnahmezyklus, der die Einrichtung der Einheit und die Anpassung verschiedener Parameter einfach und schnell macht. Die Maschine ist mit einer robusten industrietauglichen Vakuumkammer mit fortschrittlichen Plasmabearbeitungskomponenten ausgestattet, die eine sichere und effiziente Umgebung für die Verarbeitung bieten. GREATSENSE GS-AIR-7 verfügt über einen unabhängigen HF-Stromversorgungsausgang, mit dem der Benutzer die Plasmaparameter für erweiterte Leistungsbereiche anpassen kann. Es kommt auch mit einer Touchscreen-Schnittstelle, die es dem Benutzer ermöglicht, das Werkzeug in Echtzeit zu steuern. Die Anlage kann für verschiedene Anwendungen verwendet werden, einschließlich Implantataktivierung, Metalloxidabscheidung, Oberflächenreinigung, Oberflächenmodifizierung und Reinigung. Insgesamt bietet GS-AIR-7 umfassende Funktionen wie einstellbare Plasmaparameter, computergesteuerte Endpunkterkennung, Fehlerberichte, Warnmeldungen und automatisierte Inbetriebnahme für ein intuitives und effizientes Waferbearbeitungserlebnis. GREATSENSE GS-AIR-7 Modell wurde für Langlebigkeit und lange Lebensdauer konzipiert und enthält alle notwendigen Komponenten für eine zuverlässige und leistungsstarke Plasmabearbeitung. Es verwendet eine vakuumdichte Kammer, die eine inerte Atmosphäre für die Verarbeitung bietet, die Verunreinigungen reduziert und die Lebensdauer des erzeugten Plasmas maximiert. Der integrierte Vektornetzwerkanalysator hilft dem Anwender, die Amplituden- und Phasencharakteristik des emittierten Plasmas genau zu messen. Das Gerät bietet zudem eine hohe Flexibilität bei der Auswahl der Plasmaquellen und ist somit an eine Vielzahl von Anwendungen anpassbar. Die Standardversion des Systems ist mit einem Zwei-Punkt-Vektor-Netzwerk-Analysator ausgestattet, um die erzeugten Plasmaparameter sowohl in linearen als auch in nichtlinearen Systemen zu messen. Darüber hinaus kann dem Gerät eine optionale erweiterte Plasmaquelle hinzugefügt werden, um eine höhere Präzision und Präzisionsreinigung zu erreichen. GS-AIR-7 unterstützt eine Vielzahl von Prozessen, darunter Ionenimplantation, Ablation, wässrige Reinigung, Hydratation, Ätzen, Glühen, Niederschlag und Atomschichtabscheidung. In ähnlicher Weise ermöglicht die Lüftersteuerungsoption dem Benutzer, die Prozessparameter für verschiedene Zielsubstrate zu optimieren. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Wafer-Kartierung ausgestattet, die die Wafer-Topographie bewertet und das Werkzeug für eine Vielzahl von Prozessanwendungen geeignet macht. Insgesamt ist GREATSENSE GS-AIR-7 eine effiziente Waferbearbeitungsanlage, die hervorragende Leistung und hohe Verarbeitungsgeschwindigkeiten bietet.
Es liegen noch keine Bewertungen vor