Gebraucht JCM RC 100 #9103695 zu verkaufen

JCM RC 100 ist eine Waferbearbeitungsanlage, die für die Herstellung einer breiten Palette von Komponenten verwendet wird. Dieses System ist in der Lage, Schlamm, Plasma, Foto oder chemische Behandlungen für verschiedene Größen und Konfigurationen von Wafern zu handhaben. Es ist in der Lage, sowohl runde als auch quadratische Wafer auf der gleichen Einheit zu verarbeiten. Diese Maschine verfügt über einen vollautomatischen Transportmechanismus, der das Be- und Entladen von Wafern erleichtert und eine volle Bewegungsflexibilität ermöglicht. Die Wafer werden in eine spezielle Bearbeitungskammer innerhalb des Werkzeugs transportiert. Innerhalb der Bearbeitungskammer erhalten die Wafer eine Kombination von bis zu 6 Bearbeitungsschritten, darunter Reinigen, Polieren, Ätzen und Plattieren. Die Anlage enthält außerdem eine Vier-Positionen-Oszillatoranordnung zur weiteren Steuerung der Bearbeitung der Wafer. Diese Oszillatoranordnung ist in der Lage, von Punkt zu Punkt bei 60 Positionen pro Minute mit einem maximalen Winkelbereich von 8,5 ° zu schwingen. Weitere Merkmale des RC 100-Modells sind ein mikroprozessorgesteuerter Diffusor, um eine gleichmäßige Verarbeitung der Wafer zu gewährleisten, sowie mehrere Prozesssteuergeräte, um eine präzise Steuerung des gesamten Prozesses zu ermöglichen. Der rotierende Träger des Geräts trägt außerdem dazu bei, eine einheitliche Waferbearbeitung zu gewährleisten. Dieser rotierende Träger hält bis zu 8 Wafer gleichzeitig und dreht bis zu 2000 U/min. Es hat auch einstellbare Höheneinstellungen, um verschiedene Wafergrößen aufzunehmen und eine gleichmäßige Verarbeitung in jeder Charge von Wafern zu ermöglichen. Das System enthält auch eine interne Temperaturregeleinheit, die es dem Bediener ermöglicht, Temperaturgrenzen für jeden unterschiedlichen Prozessschritt festzulegen. Die Maschine JCM RC 100 verfügt über mehrere Sicherheitssysteme, um die Sicherheit des Bedieners und die Qualität der Wafer zu gewährleisten. Dazu gehören ein Drucküberwachungswerkzeug, eine Abgasanlage zur Steuerung von Partikeln in der Luft sowie ein Überlaufschutz zur Vermeidung von potenziellen Gefahrstoffverlusten. Insgesamt ist RC 100 ein fortschrittliches, automatisiertes Waferbearbeitungsmodell, das ein hohes Maß an Flexibilität, Präzision und Sicherheit bietet. Es ist in der Lage, Schlamm, Plasma, Foto oder chemische Behandlungen für verschiedene Größen und Konfigurationen von Wafern zu handhaben, zusätzlich mit einem vollautomatischen Transportmechanismus und einem verstellbaren rotierenden Träger. Durch den Einsatz mehrerer Prozesssteuerungen und Sicherheitssysteme können die Bediener jedes Mal auf konsistente und qualitativ hochwertige Ergebnisse achten.