Gebraucht KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF #293663639 zu verkaufen

KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF ist eine Hochtemperatur-Waferbearbeitungsanlage, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Dieses System verwendet fortschrittliche Verarbeitungstechnologien auf Waferebene, um Oxidmuster schnell und präzise zu bilden, ohne das zugrunde liegende Material zu beschädigen. GV1-20HAT-PF beschichtet die Wafer mit einer dünnen Schicht von Materialien wie Siliziumdioxid oder Polysilizium mittels Hochtemperaturabscheidungsmethoden. Dies geschieht in einem Hochtemperaturofen, wo das Substrat auf Temperaturen bis 850 ° C erwärmt wird. Dadurch wird sichergestellt, dass der dünne Film die Wafer gleichmäßig beschichtet und ein Oxidmuster erzeugt, das über das gesamte Substrat konsistent ist. Nach der Bildung des Oxidmusters projiziert KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF mittels laseroptischer Lithographie Bilder des gewünschten Musters auf das Substrat. Dies geschieht mit hoher Präzision, um eine präzise Ausrichtung der Merkmale auf dem Wafer zu gewährleisten. Ein weiterer Vorteil von GV1-20HAT-PF ist das geringe thermische Budget. Diese Einheit verwendet einen Niedertemperatur-Prozess, der auf kurzer Zeit basiert. Dadurch wird die thermische Erosion des zugrundeliegenden Materials minimiert, was die Ausbeute des Endproduktes verringern kann. Darüber hinaus führt das niedrige thermische Budget zu einer geringeren Belastung des Wafers, wodurch seine Integrität und hohe Leistung nach der Verarbeitung erhalten bleiben. Auch KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF ist hocheffizient, da es Waferdurchsätze von bis zu 10 Wafern pro Zyklus ermöglicht. Damit ist sie eine ideale Wahl für die Serienreife. Schließlich ist GV1-20HAT-PF mit einer umfassenden Suite von Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Dazu gehören ein Temperatursensor, der eine Überhitzung der Maschine verhindert, und ein Drucksensor, der den Kammerdruck überwacht, um sicherzustellen, dass er die zulässigen Grenzen nicht überschreitet. Zusammengefasst ist KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF ein Hochtemperatur-Waferbearbeitungswerkzeug, das fortschrittliche Wafer-Bearbeitungstechnologien verwendet, um Oxidmuster schnell und präzise zu bilden, ohne das zugrunde liegende Material zu beschädigen. Diese Anlage bietet ein geringes thermisches Budget, hohe Durchsätze und umfassende Sicherheitsmerkmale und ist somit eine ideale Wahl für Anwendungen in der Halbleiterherstellung.