Gebraucht MKS ASTeX FI20620-1 #9165070 zu verkaufen

MKS FI 20620-1 ist eine fortschrittliche Waferbearbeitungsanlage für den Einsatz in naßchemischen Prozessen in der Halbleiterindustrie. Das System verfügt über ein einzigartiges Flow-in-Place (FIP) -Design zur gleichzeitigen Verarbeitung mehrerer Wafer. Dies ermöglicht einen erhöhten Durchsatz und verringerte Zykluszeit im Vergleich zu herkömmlichen Single-Wafer-Verarbeitungssystemen. Je nach anwendungstechnischen Anforderungen kann das Gerät bis zu 15 Wafer gleichzeitig aufnehmen. Die Maschine besteht aus einem Prozesstank, einem Transferarm, einer Abgabeeinheit, einer Steuerung, Stromversorgungen und einem Filter/Regler. Der Prozesstank besteht aus hochwertigem Edelstahl und ist versiegelt, um effiziente Prozesszyklen zu ermöglichen. Im Inneren des Tanks befinden sich eine Reihe von einzelnen Kammern mit Kanälen, die sie verbinden. Mit dem Transferarm werden die Wafer von einer Kammer zur nächsten bewegt. Die Abgabeeinheit dient dazu, die gewünschten Chemikalien genau und präzise an den exakten Ort im Prozesstank zur Verarbeitung abzugeben. Die Steuerung ist das „Gehirn“ des Werkzeugs und ist für die Koordination der Bewegung des Übertragungsarms, der Temperatur des Prozesstanks, der Prozesschemie und des Vakuumdrucks verantwortlich. Dadurch wird sichergestellt, dass die Prozesse präzise und mit größter Wiederholbarkeit durchgeführt werden. Der Controller kann auch verwendet werden, um den Fortschritt der Prozesse zu überwachen, so dass mehr Konsistenz in den Ergebnissen. MKS FI20620-1 verfügt auch über fortschrittliche Netzteile, die dem Asset zuverlässige Spannung und Strom liefern. Dadurch wird sichergestellt, dass die Prozesse effektiv und mit hoher Konsistenz durchgeführt werden. Der Filter/Regler ist auch eine wichtige Komponente, da er hilft, die richtigen Gase, Temperaturen, Drücke und Vakuumwerte während der Verarbeitung für maximale Zuverlässigkeit zu erreichen. FI 20620-1 ist ein hochentwickeltes Waferbearbeitungsmodell, das für den Einsatz in nasschemischen Prozessen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verfügt über ein einzigartiges FIP-Design für erhöhten Durchsatz, hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit und ist in der Lage, bis zu 15 Wafer gleichzeitig zu handhaben. Es verfügt auch über fortschrittliche Netzteile und einen Filter/Regler für zuverlässige Spannung und Strom an die Ausrüstung, sowie die Gewährleistung der richtigen Gase, Temperaturen, Drücke und Vakuumniveaus erreicht werden. Das System ist ein leistungsfähiges und effizientes Werkzeug für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen.