Gebraucht MKS RPS 2L #9052456 zu verkaufen

MKS RPS 2L
Hersteller
MKS
Modell
RPS 2L
ID: 9052456
Plasma sources Model #: FI20620-1.
MKS RPS 2L ist eine Multiwafer-Wafer-Verarbeitungsanlage mit hohem Durchsatz, die speziell für die steigenden Anforderungen von Backend-Halbleiterprozessen entwickelt wurde. RPS 2L ist ein voll funktionsfähiges Wafer-Prozesssystem, das für die hochpräzise Waferbearbeitung entwickelt wurde. Es ist für Präzisionsanwendungen wie RTP (Rapid Thermal Processing), ECD (Electrolytic Chemical Deposition), Photolithography und Sputtering optimiert. MKS RPS 2L bietet hohe Präzision, weniger Defekte, verbesserte Ausbeute und Werkzeugverfügbarkeit. RPS 2L verfügt über ein intuitives HMI, das eine einfache Bedienung und Prozesssteuerung bei minimaler Rüstzeit ermöglicht. Das Gerät ist in der Lage, bis zu 200mm Wafer in einer einzigen Kassette zu handhaben, was einen massiven Durchsatz und eine hohe Ausbeute ermöglicht. Darüber hinaus bietet es eine präzise Kontrolle über Gleichmäßigkeit, Temperatur und Prozesszeit. Die Maschine wird auch mit automatisiertem Wafertransport, mit minimaler manueller Handhabung ausgestattet. Dies hilft, Kontaminationen zu reduzieren und bietet Kosteneinsparungen für eine Vielzahl von Produktionsanforderungen. Darüber hinaus ist MKS RPS 2L aus langlebigem Edelstahl gefertigt und verfügt über ein hocheffizientes Thermomanagement für reduzierte Betriebskosten. Es bietet auch ausgezeichnete Temperaturgleichmäßigkeit über Wafer für verbesserte Prozesskontrolle und Präzision. Um die Effizienz weiter zu optimieren, verfügt das Werkzeug auch über eine integrierte Vakuumkammer, die Wafertemperaturänderungen minimiert und die Ausfallzeiten aufgrund von Wartungsanforderungen reduziert. Schließlich verfügt RPS 2L über ein modulares Design und ist damit die perfekte Wahl für Asset-Upgrades oder Erweiterungen. Dies ermöglicht schnelle Umsatz- und Kosteneinsparungen sowie die Flexibilität, verschiedenen Anforderungen gerecht zu werden. Insgesamt ist MKS RPS 2L ein effektives und hochpräzises Wafer-Prozessmodell, das die perfekte Lösung für eine Vielzahl von Backend-Halbleiterprozessen bietet.
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