Gebraucht NEWTECH WAVE HSC650 #9282772 zu verkaufen

NEWTECH WAVE HSC650 ist eine High-End-Wafer-Bearbeitungsausrüstung für fortgeschrittene Halbleiterforschung und -entwicklung. Im Kern ist HSC650 ein voll ausgestattetes Waferbearbeitungssystem, das mit fortschrittlicher Lithographie, Dünnschichtabscheidung, elektrochemischem Ätzen und Ionenimplantationsfunktionen entwickelt wurde. Das Gerät integriert sich selbstverständlich in Prozessleitsysteme und Software-Tools zur Verbesserung von Automatisierung und Workflow. Für die fortschrittliche Lithographie wird NEWTECH WAVE HSC650 mit einem hochpräzisen und stabilen Lasermaskenschreiber und einer erweiterten SEB-Spalte (Scanning Electron Beam) geliefert, die zum Schreiben von gemusterten Funktionen mit extrem feinen Linienmerkmalen entwickelt wurde. Die Maschine verfügt über verbesserte optische und Overlay-Fähigkeiten, so dass es ideal für die Herstellung von geordneten, hohe Symmetrie Muster auf dem Wafer. Für die Dünnschichtabscheidung bietet das Werkzeug eine Auflösung auf Subpixelebene mit genauer Gleichmäßigkeit und eignet sich somit für die Fertigstellung komplexer Schichtstrukturen. Das Asset wird standardmäßig mit 4-in-1 Direct-Write-Deposition geliefert und bietet PVD, ALD, MBE und GBPA-Protokolle, die alle für die Schnittstelle mit Rezeptsteuerungssoftware entwickelt wurden, um den Abscheidungsprozess zu erleichtern. HSC650 bietet auch elektrochemische Verarbeitungsmöglichkeiten und eignet sich somit für die Herstellung komplexer 3D-Muster sowie funktionaler Merkmale auf der Waferoberfläche. Das Modell bietet auch eine vollständige Palette von Ionenimplantationsmöglichkeiten mit variabler Geschwindigkeitsregelung zur Gewährleistung von Genauigkeit und Prozessstabilität Alle Funktionen von NEWTECH WAVE HSC650 sind in einem umweltfreundlichen Design untergebracht, das eine robuste, reduzierende Reinigungsausrüstung bietet, die die Menge an Gefahrstoffen, die während des Betriebs in die Umwelt. Insgesamt ist HSC650 eine fortschrittliche Waferverarbeitungseinheit, die die Grenzen fortschrittlicher Halbleiterforschung und -entwicklung verbessern soll. Mit ihrer vielseitigen und präzisen Lithographie, Abscheidung, Ätzung und Implantation bietet die Maschine die perfekte Plattform für die Herstellung von Spitzenprodukten.