Gebraucht SATISLOH ART Blocker A #293672033 zu verkaufen

Der SATISLOH ART Blocker A ist eine fortschrittliche andere Waferbearbeitungsanlage, die zur Herstellung von Photomasken, Retikeln und anderen Bauelementen für Halbleiter verwendet wird. Ausgestattet mit einer automatisierten Kathodenheizstufe ist das System in der Lage, eine Vielzahl von Masken- und Retikelherstellungsprozessen durchzuführen, wie Maskenneuausrichtung, Musterreklamation, Phasenverschiebungs-Retikelkorrektur und Laserreparatur. Das Gerät verwendet eine fortschrittliche Wärmebildmaschine zur genauen Neuausrichtung von Masken und Retikeln. Dieses Werkzeug ermöglicht die Überwachung und Abbildung der thermischen Ausdehnung komplexer optischer Elemente, um sicherzustellen, dass der Wafer immer genau positioniert ist. ART Blocker A ist mit einer Hochleistungs-Laserreparatur ausgestattet, um Photomasken hoher Dichte mit punktgenauer Genauigkeit und minimaler Arbeitszeit zu reparieren. Das Modell umfasst eine fortschrittliche Laser-Spot-Ausrichtung, um den genauen Ort des Schadens und die genaue Position für die Reparatur genau zu identifizieren. Das Laser-Spot-Alignment-System ist in der Lage, eine präzise Laserreparatur mit einer Eliminationszeit von weniger als 10 ms pro Strahl zu liefern. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche Reinigungsmaschine, um sicherzustellen, dass der Wafer während der gesamten Verarbeitung sauber bleibt. Dieses Reinigungswerkzeug soll die Staubmenge reduzieren und auch die Partikelverunreinigungen reduzieren, die sich auf dem Wafer ansammeln können. Der Vermögenswert umfasst auch ein fortschrittliches Abscheidungsmodell, das einen Film auf der Oberfläche des Wafers ablagert. Diese Abscheidevorrichtung verwendet ein geschlossenes Vakuumverfahren, um einen dünnen, gleichmäßigen Film auf den Wafer aufzubringen. Der SATISLOH ART Blocker A ist auch mit einem fortschrittlichen Lithographiesystem zur Durchführung einer Vielzahl komplexer Photomasken- und Waferbetriebe ausgestattet. Die Lithographieeinheit verwendet eine fortschrittliche photoelektrische Maschine, die in der Lage ist, die Abmessungen verschiedener Photomasken und Komponenten innerhalb einer einzigen Belichtung genau zu identifizieren. Das Werkzeug ist auch in der Lage, Muster auf der Oberfläche des Wafers zu drucken, wodurch komplizierte und präzise Muster mit schnellen und effizienten Ergebnissen erzeugt werden können. ART Blocker A ist eines der fortschrittlichsten Systeme für die Bearbeitung und Herstellung von Wafern. Mit seinen fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen bietet dieses Asset eine integrierte und umfassende Lösung für die Masken- und Geräteherstellungstechnologie. Das Modell bietet eine Vielzahl von Funktionen und Optionen, die es dem Anwender ermöglichen, seinen Produktionsprozess zu optimieren und den Zeit- und Investitionsaufwand für die Herstellung von qualitativ hochwertigen Photomasken und Retikeln zu reduzieren.