Gebraucht ULTECH Ultrsonic #9153462 zu verkaufen

ULTECH Ultraschall-Waferbearbeitungssysteme werden zur Vorbereitung und Reinigung von Wafern für die Halbleiterherstellung eingesetzt. Diese Systeme bieten ein zuverlässiges und wiederholbares Verfahren zur Entfernung von Rückständen von Waferoberflächen sowie zur Herstellung von für Klebezwecke verwendeten Oberflächen. Das Grunddesign der ULTECH Ultraschall-Waferbearbeitungssysteme besteht aus einem Schallwandler, einem Tank und einem Controller. Der Schallwandler dient zur Erzeugung und Übertragung von Ultraschallwellen, die die Energie liefern, die zum Abbau und Entfernen von Verunreinigungen von der Waferoberfläche benötigt wird. Der Tank ist mit einer Reinigungsflüssigkeit gefüllt, normalerweise Wasser, und spezielle Chemikalien werden hinzugefügt, um statische Elektrizitätswerte zu reduzieren. Die Steuereinheit ist programmiert, um die Frequenz, Amplitude und Dauer der Schallwellen zu steuern, die verwendet werden, um die für die Reinigung benötigte Energie zu liefern. Die im ULTECH-Verfahren erzeugten Ultraschallwellen sind hochwirksam bei der Entfernung von mikrobiellen, anorganischen und organischen Verunreinigungen. Die Wellen laufen über die Oberfläche des Wafers hinaus und bewirken eine Kavitationswirkung, um die Verunreinigungen von der Oberfläche zu lösen. Der Reinigungsprozess wird durch das Rühren der Reinigungsmittel im Tank, die zum Abbau und Abheben der Verunreinigungen von der Oberfläche beitragen, weiter verstärkt. Nach Entfernen der Verunreinigungen kann auch die Oberflächengüte des Wafers gesteuert werden. Dies geschieht durch Einstellung der Frequenz, Amplitude und Dauer der vom Wandler erzeugten Schallwellen. Durch die Verwendung niedrigerer Frequenzwellen kann ein feines, gleichmäßiges Finish erreicht werden. Diese Oberfläche wird verwendet, um die Haftung von verpackten Geräten zu erleichtern und ist für zuverlässige Rückschleifprozesse erforderlich. ULTECH Ultraschall-Wafer-Verarbeitungssysteme werden in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt, einschließlich Luft- und Raumfahrt, Automobil und Medizin, sowie in der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Die Systeme sind einfach zu bedienen und bieten eine kostengünstige, wiederholbare und zuverlässige Methode zur Vorbereitung und Reinigung von Waferoberflächen.