Gebraucht PURE AIRE UF72AE #9303096 zu verkaufen

PURE AIRE UF72AE Photoresist-Geräte sind eine fortschrittliche, kostengünstige Lösung zur Kontrolle der Materialabscheidung und zur Gewährleistung der Reproduzierbarkeit der Musterübertragung. Im Photolackverfahren wird UV-Belichtung von Resists verwendet, um Ätzfenster zu definieren und Schaltungsmuster innerhalb eines Halbleiterwafers zu erzeugen. UF72AE ist ein vielseitiges Photolacksystem, das eine bemerkenswerte Präzision und Flexibilität bietet. PURE AIRE UF72AE ist in der Lage, bis zu 200mm Wafer mit einer einzigen Belichtung und minimaler Verzerrung zu handhaben. Dies ist auf zwei Strahlpunkte zurückzuführen, die in Echtzeit beabstandet und optimal fokussiert sind. Darüber hinaus ist UF72AE mit einer fortschrittlichen Beleuchtungseinheit konzipiert, die eine gleichmäßige Verteilung von UV-Licht bei maximaler Energieeinsparung gewährleistet. Dies trägt dazu bei, die Kosten vor dem Belichtungsprozess zu senken und stets qualitativ hochwertige Ergebnisse zu liefern. Um seine Genauigkeit zu erhalten, verfügt PURE AIRE UF72AE über die neueste digitale Steuerungstechnologie für wiederholbare Einstellungen. Die mikropräzisen optischen Komponenten von UF72AE garantieren, dass die Maschine ihre Fokusgenauigkeit über verschiedene Wafergrößen beibehält. Dies wird durch mehrere Filter weiter verbessert, die dafür sorgen, dass die Musterübertragung unabhängig von Substratdickenschwankungen reproduzierbar bleibt. Darüber hinaus ist PURE AIRE UF72AE mit allen gängigen Fotolackmaterialien kompatibel. Dadurch kann es schnell für verschiedene Arten von Aufträgen eingerichtet werden und jede Art von Substrat aufnehmen. Darüber hinaus ermöglicht das patentierte Auto-Uniform Exposure Tool die Ausführung mehrerer Aufträge ohne manuelle Anpassungen. Dies alles dank der eingebauten Sensoren, die die Belichtungsparameter für einen optimalen Durchsatz ständig nachjustieren. Abschließend ist UF72AE ein fortschrittliches, kostengünstiges Photoresist-Asset. Seine Fähigkeit, Muster präzise zu ätzen und den optimalen Fokus auf mehrere Substratgrößen zu erhalten, macht es zur idealen Lösung für jeden Photolackprozess. Die digitale Steuerungstechnik, die flexible Kompatibilität und das Auto-Uniform Exposure Model sorgen dafür, dass die Musterübertragung reproduzierbar und präzise ist. Damit bleibt PURE AIRE UF72AE eine zuverlässige und wirtschaftliche Wahl für alle Photoresist-Anwendungen.