Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP eMax CT #9371704 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9371704
Wafergröße: 12"
Dielectric etcher, 12" Process: Cu Wafer type: Notch Carrier: FOUP (3) Load ports (4) Chambers TDK Corrosion resistant loader module Alcatel IPUP Does not include Hard Disk Drive (HDD) Facility plate: N2 Regulator Manual valve Pressure gauge Loadlock pressure monitor: Gauge convectron: 1MTORR-1000TORR 1 / 4FVCR DNET Transfer pressure monitor: Gauge convectron: 1MTORR-1000TORR 1 / 4FVCR DNET 5 SLM N2 MFC Signal towers: Kit 4 Lights Devicenet light tower Cable: Monitor cable, 15 feet / 50 feet Pump cable, 75 feet Monitors: Monitor 1: Flat panel with keyboard Monitor 2: Remote flat panel Chamber configuration: Process kits: Qt / Si Gas inject: 3.5 Anodized SGD Chamber O-Ring: Chamraz 513 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER ATH 1600M Turbo pump RF Match: DAIHEN RF Generator: ENI GHW 50 EPD Windows: Quick remove released quartz CM Test port: 1/2 VCR and KF25 Dual RGA Port: RGA port Endpoint type: H.O.T Endpoint Endpoint wavelength 1: CO 484 NM Endpoint wavelength 2: CN 387 NM Cathode temperature monitor ESC Power supply: CT HV RF Feed: Direct CT Cathode Dry pump: EABARA-ESR80WN Wall chiller: SMC-H2010 Cathode chiller: SMC-INR 496-003D Coolant: HT110 ESC type: ESC, Assembly, 12" , Dual electrode, IA Liner: CT Liner Process gas box configuration: Chamber A: Gas name / MFC Type size NF3 / FC-PN980CR1BA-100 CH3F / FC-PN980CR1BA-50 CH2F2 / FC-PN980CR1BA-50 O2 2000 / FC-PN980CR1BA-2000 O2 50 / FC-PN980CR1BA-50 O2 20 / FC-PN980CR1BA-20 N2 / FC-PN980CR1BA-200 CHF3 / FC-PN980CR1BA-200 CF4 / FC-PN980CR1BA-200 AR 300 / FC-DN780C-BA-300 Chamber B: Gas name / MFC Type size C4F6 / FC-PN980CR1BA-150 C4F8 / FC-PN980CR1BA-50 CO / FC-PN980CR1BA-500 CH2F2 / FC-PN980CR1BA-50 O2 2000 / FC-PN980CR1BA-2000 O2 50 / FC-PN980CR1BA-50 N2 / FC-PN980CR1BA-200 CHF3 / FC-PN980CR1BA-200 CF4 / FC-DN780C-BA-200 AR 300 / FC-DN780C-BA-300 Chamber C: Gas name / MFC Type size C4F6 / FC-PN980CR1BA-150 CH2F2 / FC-PN980CR1BA-50 O2 2000 / FC-PN980CR1BA-2000 O2 50 / FC-PN980CR1BA-50 O2 20 / FC-PN980CR1BA-20 N2 / FC-PN980CR1BA-200 CHF3 / FC-PN980CR1BA-200 CF4 / FC-DN780C-BA-200 AR 200 / FC-PN980CR1BA-200 AR 1500 / FC-PN980CR1BA-1500 Chamber D: Gas name / MFC Type size C4F6 / FC-PN980CR1BA-150 CH2F2 / FC-PN980CR1BA-50 O2 2000 / FC-PN980CR1BA-2000 O2 50 / FC-PN980CR1BA-50 N2 / FC-PN980CR1BA-200 CHF3 / FC-PN980CR1BA-200 CF4 / FC-PN980CR1BA-200 AR 200 / FC-PN980CR1BA-200 AR 1500 / FC-PN980CR1BA-1500.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP eMax CT ist ein spezialisierter Reaktor für die Photolackverarbeitung. Dieser ultraschnelle thermische Verarbeitungsreaktor ist ein fortschrittliches Werkzeug, das es Anwendern ermöglicht, von schnelleren Ätzzyklen, präzisen Temperaturregelungen und genauer thermischer Messung zu profitieren. Die Leitungswasserkühlung von AMAT Centura AP eMax CT ermöglicht eine minimale thermische Ausbreitung innerhalb der chemischen Ätzkammer und ermöglicht so eine hochpräzise Kontrolle der Wafertemperatur beim Ätzen. Mit Hilfe eines fortschrittlichen Closed-Loop Feedback Control Systems können Anwender einheitliche Temperaturen und Prozessdauern genau wie vorgeschrieben beibehalten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Wafer keinen unerwarteten Temperaturschwankungen ausgesetzt sind, die zu thermischen Schäden an den von ihnen bearbeiteten empfindlichen Materialien führen könnten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura AP eMax CT ist auch mit einer fortschrittlichen Pulsed Excimer Source ausgestattet, die die schädliche Vergasung reduziert und die Erzeugung unerwünschter Nebenprodukte minimiert. Diese Funktion trägt dazu bei, dass der Ätzprozess konsistent und vorhersehbar bleibt. Die Quelle verfügt außerdem über einen unidirektionalen Luftstrom und eine schnelle Waferübertragungseinheit, um Partikelzahlen zu minimieren und Ausfallzeiten im Zusammenhang mit der Reinigung zu reduzieren. Neben den fortschrittlichen technologischen Fähigkeiten ist Centura AP eMax CT auch auf höchste Sicherheitsstandards ausgelegt. Seine robuste Sicherheitsüberwachungsmaschine ist in der Lage, den Ätzprozess kontinuierlich zu überwachen und das Vorhandensein gefährlicher Leckagen zu erkennen. Dadurch wird sichergestellt, dass der Reaktor sicher und zuverlässig funktionieren kann. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP eMax CT ist ein fortschrittlicher Ätzreaktor, der Anwendern eine zuverlässige, hochpräzise Steuerung ihrer Ätzzyklen ermöglicht. Seine leistungsstarken Funktionen helfen, die Wärmeausbreitung zu minimieren und die Ausgasung und Partikelanzahl zu reduzieren. Das Sicherheitsüberwachungswerkzeug sorgt dafür, dass das Ätzen kontinuierlich überwacht wird und ermöglicht es dem Anwender, eine zuverlässige, sichere und effiziente Photoresist-Ätzlösung zu nutzen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor