Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #166624 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 166624
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
SACVD BPSG system, 8"
4 channel
SMIF (Jenoptik)
Wide body load locks
Manual lid hoist
HP Robot
CH A, B, C, D – SACVD DxZ
Aluminum heater
Direct drive throttle valve
PLIS (Doped)
AE RFG 2000-2V
Gases (STEC MFCs)
O2 3 SLM
NF3 100 sccm
C2F6 1 SLM
O-zone 10 SLM
N2 10 SLM
He 3 SLM
TEOS
TEB
TEPO
Seriplex Gas Control
CH E – Multi slot cool down
Bottom feed exhaust
Facilities bottom feed
OTF Centerfind
Synergy V452
Radisys AMAT 486
1997 vintage
As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist eine plasmabasierte Ätzreaktorausrüstung, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um mehrere Schichten von dielektrischen Stapelschichten und harten Budgets zu durchätzen, einschließlich solcher aus Nitrid, Silizium und Siliziumdioxid. Das Gerät ist modular und konfigurierbar, so dass es an eine Reihe von Prozessbedingungen angepasst werden kann. Der Reaktor ermöglicht das Ätzen von Materialien mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit auf Nanometerebene. Es beinhaltet fortschrittliche Plasmaquellen- und Prozesssteuerungstechnologien wie zweidimensionale HF-Leistung „Thruster“ und reduzierte induktive Impedanz. Diese Technologien ermöglichen eine präzise Steuerung von Ätzparametern auf Nanometerebene. Darüber hinaus ermöglicht eine dreidimensionale Bildverarbeitungsmaschine die Waferprofil-Messtechnik und bietet eine Echtzeit-Rückkopplung zum Ätzwerkzeug des Reaktors. AMAT Centura DxZ wurde entwickelt, um mit stabilen Ätzraten und guter Wiederholbarkeit zu arbeiten und ist somit ideal für Produktionsanwendungen geeignet. Sein effizientes Design sorgt für hohe Ätzraten, niedrige Betriebskosten und Prozessstabilität. Das integrierte Gasverarbeitungsmodell der Anlage ermöglicht eine optimale Nutzung der im Ätzprozess verwendeten Gase, wodurch eine hohe Produktausbeute, ein verbesserter Durchsatz und geringe Betriebskosten gewährleistet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DxZ enthält auch fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen, um ein schnelles und zuverlässiges Ätzen von Mustern zu ermöglichen. Centura DxZ verfügt über mehrere Sicherheitsfunktionen, um Wafer und Personal vor Schäden zu schützen. Es beinhaltet einen Spannmechanismus, um die Wafer während des Ätzprozesses vor Verletzungen zu schützen, verfügt über fortschrittliche Mensch-Maschine-Schnittstellenfunktionen, um Benutzerfehler zu vermeiden, und ein integriertes Gehäuse, das gefährliche Stoffe, Emissionen und Geräuschpegel enthält. Darüber hinaus ist die Ausrüstung entworfen, um SEMICONDUCTOR EQUIPMENT&MATERIALS INTERNATIONAL (SEMI) Standards für Umwelt, Sicherheit und Zuverlässigkeit zu erfüllen. Zusammenfassend ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ein fortschrittliches Plasma-basiertes Ätzreaktorsystem, das den Prozess- und Produktionsanforderungen im Zusammenhang mit der Halbleiterherstellung gerecht wird. Es beinhaltet fortschrittliche Technologien zur Präzisionskontrolle auf Nanometerebene, die eine hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit gewährleisten. Darüber hinaus ist das Gerät mit Sicherheitsfunktionen konzipiert, ist effizient und kostengünstig und erfüllt SEMI-Standards für Umwelt, Sicherheit und Zuverlässigkeit.
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