Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #166624 zu verkaufen

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ID: 166624
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
SACVD BPSG system, 8" 4 channel SMIF (Jenoptik) Wide body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C, D – SACVD DxZ Aluminum heater Direct drive throttle valve PLIS (Doped) AE RFG 2000-2V Gases (STEC MFCs) O2 3 SLM NF3 100 sccm C2F6 1 SLM O-zone 10 SLM N2 10 SLM He 3 SLM TEOS TEB TEPO Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind Synergy V452 Radisys AMAT 486 1997 vintage As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist eine plasmabasierte Ätzreaktorausrüstung, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um mehrere Schichten von dielektrischen Stapelschichten und harten Budgets zu durchätzen, einschließlich solcher aus Nitrid, Silizium und Siliziumdioxid. Das Gerät ist modular und konfigurierbar, so dass es an eine Reihe von Prozessbedingungen angepasst werden kann. Der Reaktor ermöglicht das Ätzen von Materialien mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit auf Nanometerebene. Es beinhaltet fortschrittliche Plasmaquellen- und Prozesssteuerungstechnologien wie zweidimensionale HF-Leistung „Thruster“ und reduzierte induktive Impedanz. Diese Technologien ermöglichen eine präzise Steuerung von Ätzparametern auf Nanometerebene. Darüber hinaus ermöglicht eine dreidimensionale Bildverarbeitungsmaschine die Waferprofil-Messtechnik und bietet eine Echtzeit-Rückkopplung zum Ätzwerkzeug des Reaktors. AMAT Centura DxZ wurde entwickelt, um mit stabilen Ätzraten und guter Wiederholbarkeit zu arbeiten und ist somit ideal für Produktionsanwendungen geeignet. Sein effizientes Design sorgt für hohe Ätzraten, niedrige Betriebskosten und Prozessstabilität. Das integrierte Gasverarbeitungsmodell der Anlage ermöglicht eine optimale Nutzung der im Ätzprozess verwendeten Gase, wodurch eine hohe Produktausbeute, ein verbesserter Durchsatz und geringe Betriebskosten gewährleistet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DxZ enthält auch fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen, um ein schnelles und zuverlässiges Ätzen von Mustern zu ermöglichen. Centura DxZ verfügt über mehrere Sicherheitsfunktionen, um Wafer und Personal vor Schäden zu schützen. Es beinhaltet einen Spannmechanismus, um die Wafer während des Ätzprozesses vor Verletzungen zu schützen, verfügt über fortschrittliche Mensch-Maschine-Schnittstellenfunktionen, um Benutzerfehler zu vermeiden, und ein integriertes Gehäuse, das gefährliche Stoffe, Emissionen und Geräuschpegel enthält. Darüber hinaus ist die Ausrüstung entworfen, um SEMICONDUCTOR EQUIPMENT&MATERIALS INTERNATIONAL (SEMI) Standards für Umwelt, Sicherheit und Zuverlässigkeit zu erfüllen. Zusammenfassend ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ein fortschrittliches Plasma-basiertes Ätzreaktorsystem, das den Prozess- und Produktionsanforderungen im Zusammenhang mit der Halbleiterherstellung gerecht wird. Es beinhaltet fortschrittliche Technologien zur Präzisionskontrolle auf Nanometerebene, die eine hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit gewährleisten. Darüber hinaus ist das Gerät mit Sicherheitsfunktionen konzipiert, ist effizient und kostengünstig und erfüllt SEMI-Standards für Umwelt, Sicherheit und Zuverlässigkeit.
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Benutzt AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ Produkte

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9233113

AMAT / APPLIED MATERIALS

Centura DxZ

System, 8" Process: SIN Wafer shape: Notch Chamber type: Chamber A, B & C: DxZ (SIN) Chamber E (MS
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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9183987

AMAT / APPLIED MATERIALS

Centura DxZ

Chamber, 8" Gas box missing.
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AMAT P5000 #293759466

AMAT

P5000

Etcher 1998 vintage.
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NOVELLUS Chamber for Altus #293757792

NOVELLUS

Chamber for Altus

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