Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293598413 zu verkaufen

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ID: 293598413
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Oxide etcher, 12" Process: Dry ETC CIM: SECS / GEM KAWASAKI Handler Factory interface: (3) FOUPs Operating system: Windows XP Spare parts: Qty / Part number / Description (2) / 0190-00958 / Bearing for MF-Robot tube (4) / 0010-17405 / Wrist assembly (4) / 0190-13249 / Bearing for elbow (4) / 0190-13250 / Bearing for elbow (1) / 0010-17447 / Wallow controller 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler ist eine hochmoderne CVD/PECVD-Reaktorausrüstung für die Abscheidung von dünnen Schichten auf verschiedenen Substraten. Dieses fortschrittliche System ist mit zwei Kammern ausgestattet, und jede Kammer ist mit einer einzigen Prozessgasleitung und einem Paar positionell gekoppelter Suszeptor/Elektroden-Baugruppen ausgestattet, wodurch Prozessflexibilität und überlegene Filmgleichförmigkeit gewährleistet sind. AMAT Centura Enabler nutzt fortschrittliche Technologie, um überlegene Einheitlichkeit, Reproduzierbarkeit und Präzision zu bieten. Diese Einheit verfügt über eine Zweizonen-Prozesskammer, die bis zu zwei Substrate aufnehmen kann. Der Prozessdruck reicht von atmosphärisch geregelten bis zu 760 Torren. Diese Maschine verfügt auch über eine Reihe von effizienten Prozessgasen, von Ar, O2, N2, H2, CH4 und mehr. Dieses leistungsstarke Werkzeug wurde entwickelt, um die Prozesseffizienz zu maximieren, den thermischen Verlust zu minimieren und die Produktionsverfügbarkeit zu erhöhen. Um dies zu erreichen, ist es mit einer Hochleistungspyrometeranlage, einem geschlossenen Temperaturregler und verbesserten dynamischen Gasverteilungssystemen für die thermische Präzisionssegmentierung ausgestattet. Zusätzlich ist dieses Modell mit ATC-on-the-Fly (ATCOTF) -Technologie ausgestattet, die eine optimale dynamische Prozesssteuerung bietet, ohne den Durchsatz zu beeinträchtigen. In Bezug auf die Prozessdynamik verwertet Grundvoraussetzung von APPLIED MATERIALS CENTURA einen erhöhten (HTE)-Hoch-Temperaturelektronbalkenreaktionsraum, der zur Operation bis zu 1300°C fähig ist. Seine überlegene Oberflächenheizung und Gleichmäßigkeit werden durch die harmonische Resonanz seiner beiden Suszeptoren und zwei Elektroden weiter verbessert. Die Ausrüstung verfügt auch über eine fortschrittliche Active Gas Management (AGM) Schnittstelle für die fortschrittliche Gaslieferung und -nutzung in beiden Kammern. Darüber hinaus behält Centura Enabler auch während des gesamten Filmabscheidungsprozesses eine hervorragende Temperaturkontrolle. Die postprozessuale Messtechnik kann durch die Ausstattung des Systems mit einem Rasterelektronenmikroskop (SEM) eingebaut werden. Zusammenfassend bietet AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler zahlreiche erweiterte Funktionen und Funktionen, die die Abscheidung von dünnen Filmen mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit ermöglichen. Diese CVD/PECVD-Einheit ist ideal für Anwendungen, die eine hohe Präzision und Prozesskontrolle erfordern.
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