Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #293627621 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT
ID: 293627621
System Process: Block.
AMAT Producer Gold (AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT) ist eine Art Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. Das Gerät verwendet Plasma, um hochwertige Filme auf den Oberflächen von Halbleiter- und anderen elektronischen Substraten abzuscheiden. AMAT Producer GT ist ein vielseitiges PECVD-System, das eine Vielzahl von Materialien verarbeiten kann, darunter Siliziumalkane, Nitride, Oxide und Fluorkohlenwasserstoffe. Dieser Reaktor verfügt über eine fertigungstechnische Prozesskammer, die Funktionen wie einen weit geöffneten Zugang zum Substrat, eine überlegene Gleichmäßigkeitsregelung und eine bessere engmaschige Prozesssteuerung bietet. Die Produktionskammer verfügt außerdem über zwei HF-Heizquellen, eine Mikrowellen-Plasmaquelle und eine Hochfrequenz-Magnetronquelle. Diese einzigartige Kombination ermöglicht eine erhöhte Plasmakontrolle, bessere Gleichmäßigkeit und hohe Abscheidungsraten für eine große Palette von Schichtmaterialien. APPLIED MATERIALS Producer GT wurde entwickelt, um wiederholbare, zuverlässige und hocheffiziente Prozesse bereitzustellen. Zu den Hauptmerkmalen gehören eine hohe Prozesstemperaturfähigkeit von bis zu 800 Grad Celsius sowie beheizte und gekühlte Wände in der Kammer. Dies gewährleistet konsistente und wiederholbare Ergebnisse, auch bei der Verarbeitung exotischer Materialien oder bei High-End-Prozessschritten. Hersteller GT integriert auch APPLIED MATERIALS proprietäre VESPER (Variable Energy Surface Plasma Enhanced Reactor) Technologie, die eine genaue Kontrolle der Plasmadichte, Energie und Verteilung ermöglicht. VESPER bietet dem Anwender auch eine präzise Steuerung von Filmdicke, Zusammensetzung und Brechungsindex. AMAT/APPLIED MATERIALS Hersteller GT ist in der Lage, eine Reihe von Wafergrößen, von zwei Zoll bis acht Zoll Durchmesser Wafer laufen. AMAT Producer GT beinhaltet eine präzise schichtweise Prozesssteuerung, die die Parameter und Daten für jede Schicht eines Abscheidelaufs überwacht. Dies ermöglicht präzise und wiederholbare Prozesse und gibt dem Anwender die Möglichkeit, mit jedem Durchlauf konsequent gewünschte Ergebnisse zu erzielen. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT verfügt auch über eine Tieftemperatur-Backmaschine mit trockener Stickstoffspülung, die Standardlösungstemperaturen von -25 Grad Celsius bis + 200 Grad Celsius ermöglicht. Abschließend ist Produzent GT ein PECVD-Reaktor, der für High-End-Abscheidungsprozesse ausgelegt ist. Das Werkzeug verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, um wiederholbare und zuverlässige Prozesse sowie eine präzise Filmdicke und Zusammensetzungssteuerung zu gewährleisten. Das Asset kann ein Array von Wafergrößen ausführen, und sein Layer-by-Layer-Prozesssteuerungsmodell ermöglicht präzise und konsistente Ergebnisse mit jedem Lauf.
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