Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9198380 zu verkaufen

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ID: 9198380
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
CVD System, 12" Qty / Part number / Description (1) / 0190- 03068 / PIO Cable board OHT (1) / 0190- 44306 / Loadlock EUROTHEM (3) / 0140- 18773 / Pedestal lift motor cable side 1 (3) / 0140- 18772 / Pedastal lift motor cable side 2 (6) / 3700- 01376 / Pedastal O- ring (1) / 0140- 17152 / Chamber controller signal cable (2) / 0195- 11067 / Chamber AC box (3) / 3980- 00027 / RING BOLT, MF80, 5.95OD W /.358 (6) / 0021- 98006 / ENP Cover, crossdrill (1) / - / LCF Sensor cover (3) / - / EV3 Manifold (2) / - / LCF Sensor window (8) / - / LCF Sensor srew Currently warehoused 2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein hochmoderner CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird. Das fortschrittliche Design dieser Ausrüstung macht es zum idealen Werkzeug für die Herstellung hochwertiger, ultradünner Materialschichten auf Halbleitersubstraten. Das System nutzt eine Zwei-Kammer-Konstruktion, die einen flexiblen Prozess ermöglicht. Die Hauptkammer ist die Reaktionskammer und sie ist mit einer Reihe von Gaseinlässen ausgestattet, die für verschiedene Rezepte einstellbar sind. Diese Kammer beherbergt auch einen Heißwandsensizeptor und eine elektromagnetische Plasmaquelle. Der Suszeptor wird auf Temperaturen von bis zu 950 ° C erwärmt, um die für den Beginn des chemischen Reaktionsprozesses erforderliche Energie bereitzustellen. Die Plasmaquelle hilft dabei, Gasmoleküle in ihre Bestandteile zu zerlegen und eine gleichmäßige Verteilung dieser Atome zu gewährleisten. Das Gerät ist auch mit einem Controller und einer Benutzeroberfläche ausgestattet. Der Benutzer kann gewünschte Rezepte eingeben und dann wird der Controller die Maschine entsprechend konfigurieren. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Schritte des CVD-Prozesses berücksichtigt werden. Der Benutzer kann auch verschiedene Parameter wie Temperatur, Druck und Durchflussrate einstellen, um die Leistung des Werkzeugs zu verfeinern. Nach Beendigung des Prozesses verlässt eine gekühlte Abgasleitung die Reaktionskammer und leitet die verwendeten Prozessgase außerhalb der Anlage. Das Kühlmodell trägt auch dazu bei, dass die Temperatur und der Druck der Kammer auf dem optimalen Niveau gehalten werden. Neben seinen Funktionen bietet AMAT Producer GT eine breite Palette an erweiterten Funktionen, darunter reaktive CVD mit hohem Seitenverhältnis, niedrige Temperatur schnelle thermische Verarbeitung (RTP), ultra-niedrige Temperatur CVD (LTCVD) und vieles mehr. Das fortschrittliche Design dieser Ausrüstung ermöglicht es, eine Vielzahl von Substraten und Materialien unterzubringen, so dass es ein vielseitiges Werkzeug für die Halbleiterherstellung. Abschließend ist APPLIED MATERIALS Producer GT ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der mit der Flexibilität entwickelt wurde, eine Vielzahl von Substraten und Materialien unterzubringen. Es bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, sowie einfache Bedienung und eine robuste Steuerung und Benutzeroberfläche. Damit ist es ein ideales Werkzeug zur Herstellung hochwertiger Materialschichten für die Halbleiterherstellung.
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