Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9208937 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9208937
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
CVD System, 12"
Items: FI
FI Robot
FI Robot controller
Aligner
Cool station
FES
FIS
TCS/RT
FFU
Items: LL
LL Upper lifts
LL Upper lift drivers
LL Lower lifts
LL Lower lift drivers
LL Pump
LL Foreline
Items: BUFFER FX
Robot
FX Robot linkage (batwing/bridge)
Robot blades
Robot controller
LCF
Buffer pump
Buffer foreline
MF Controller
Chamber A- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber B- SACVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters
RF Filters
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber C- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, Isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
RF filters: N/A Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
2011 vintage.
AMAT / Erzeuger von APPLIED MATERIALS GT ist ein hoher Durchfluss, Singleraum, horizontal, für die Produktion von monokristallenen und polykristallenen Halbleitermaterialien verwendeter Reaktor des geschlossenen Rahmens. Dieses Gerät bietet hohe Durchsatzleistungen, was zu reduzierten Zykluszeiten sowie verbesserten Materialausbeuten führt. Das System verfügt über eine erweiterte grafische Benutzeroberfläche, die eine schnelle und einfache Parameterkontrolle ermöglicht. Es besteht auch aus einer turbogepumpten, horizontal getragenen Kammer für optimale Wärmeleistung und Gleichmäßigkeit. AMAT Producer GT enthält einen integrierten Quelltiegel mit einer fortschrittlichen Temperaturregeleinheit für perfektes Kristallwachstum. Ein automatischer Substrathalter ermöglicht eine präzise Substratpositionierung und eine kontrollierte Bewegung des Substrats. Es verfügt auch über ein fortschrittliches Pyrometer für genauere Temperaturmessungen sowie eine Niederdruck-in-situ-Gaseinspritzmaschine für optimale Wachstumsbedingungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Hersteller GT ist bequem für die einfache Installation und Bedienung in einem Standard-Halbleiterherstellungslabor dimensioniert. Es verwendet Hochleistungsmagnete, die eine optimale und gleichmäßige Feldintensität für ein gleichmäßiges Kristallwachstum bieten. Es ist auch mit einem dynamischen Kühlwerkzeug ausgestattet, um den thermischen Zyklus der Kammer zu reduzieren und die Schmutzabscheidung zu reduzieren. Darüber hinaus umfasst die Anlage erweiterte Substratkantenprofilierungsfunktionen, um ein gleichmäßiges Kristallwachstum zu gewährleisten, sowie ein integriertes Wafer-Kühlmodell, um thermische Belastungen zu reduzieren. Insgesamt ist Producer GT ein fortschrittlicher, ultraschneller Produktionsreaktor für Halbleitermaterialien, der beispiellose Leistung, Zuverlässigkeit und Effizienz bietet. Mit seiner fortschrittlichen Benutzeroberfläche, robusten Temperaturregelgeräten, integriertem Quelltiegel, dynamischem Kühlsystem und fortschrittlicher Waferkühlung ist dieser Hochleistungsreaktor die ideale Wahl für die hochmoderne Halbleiterproduktion.
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