Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9228298 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein Halbleiterreaktor der nächsten Generation, der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Dieser Reaktor ist auf High-End-Lithographieanlagen zugeschnitten und bietet die neueste, verteilte Wärme- und Partikelsteuerung. Der Reaktor wurde entwickelt, um Prozesse zu optimieren, die eine geringe Defektivität und kritische Präzision erfordern. AMAT Producer GT besteht aus zwei Hauptkomponenten, der Prozesskammer und den Unterkomponenten. Die Prozesskammer enthält die Waferkassetten sowie die Prozessmodule mit Overhead-Optik, Mikrowellen, Magnetresonanz, Laser- und Ionen-Implantatsystemen. Zu den Teilkomponenten gehören die Plasmaquelle, die Pumpe, die Kühlgeräte, das Gasfördersystem, die Stromversorgung und die Automatisierung. Die Plasmaquelle dient zur Erzeugung einer Plasmaionenquelle hoher Ionendichte mit geringer Partikelmitnahme. Es ist in einem HF-abgeschirmten Gehäuse eingeschlossen, um EMI-Störungen zu verhindern. Das Gasfördersystem dient der präzisen Steuerung von Gasströmen, Druck und Temperatur. Das Gas ist isoliert und leckagefrei. Die Netzteile sind speziell für geringen Stromverbrauch ausgelegt und verteilen gleichmäßig Strom an alle Prozessmodule. Sie sind in der Lage, Systemspannungsschwankungen aufzunehmen, wodurch das Risiko von Prozessstörungen verringert wird. Die Vakuumpumpe ist eine turbomolekulare Konstruktion, die eine präzise Steuerung und einen zuverlässigen Betrieb auch bei großen Druckschwankungen ermöglicht. Die Kühler sorgen für eine konsistente Kühlung, die für eine zuverlässige Substratverarbeitung erforderlich ist. Die Reaktoren werden mit einer 3D-Scan-Bildgebungstechnologie entwickelt, um die optimierten Prozessparameteranforderungen für die Lithographie zu erstellen. Diese Kombination von Komponenten gewährleistet eine sehr gleichmäßige Verarbeitung von Merkmalen bis zu 22nm und eine geringe Defektivität. Die Automatisierungsfähigkeiten von APPLIED MATERIALS Producer GT machen es zu einer idealen Lösung für die Hochmisch- und Niedervolumen-Halbleiterproduktion. Es wurde entwickelt, um Mehrkammer-Verarbeitungsanforderungen mit programmierbarer Wafer-Planung und strenger Steuerung von Prozessparametern und Prozessrezeptmanagement zu bewältigen. Die Automatisierung bietet auch Selbstüberwachungs- und Selbstanpassungsfunktionen, die die Anlaufzeit verkürzen und die Plattformupup-Zeit erhöhen. AMAT hat Producer GT entwickelt, um Produktivität und Ertrag zu maximieren und gleichzeitig die Betriebskosten zu minimieren. Dieser Reaktor ist die ideale Lösung für Hersteller, die ihre Halbleiter-Prozesssteuerungsfunktionen optimieren möchten.