Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9231995 zu verkaufen
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ID: 9231995
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
System, 12"
(3) Chambers
(4) Load ports
Factory interface: 5.4
AMHS Configuration: OHT
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
FI Robot blade type: Aluminum
LCF
Buffer robot type: GT
Buffer robot blade type: Ceramic
(2) Roll around monitors
Remote AC: 208 V
Ozone cabinet: INUSA
Heat exchanger 1: UNISEM
(3) MKS Ozone generators
Chamber A, B and C:
Type: SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litres
Heater type: Vacuum chuck
Gas panel configurations:
Gas box type / 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1 / NF3 - 15000 sccm
Stick 2 / AR - 15000 sccm
Stick 3 / N2 - 5000s ccm
Stick 4 / N2 - 50000 sccm
Stick 5 / He - 30000 sccm
Liquid 1 / TEOS - 7 g/min
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein thermisch-chemischer Dünnschichtabscheidungsreaktor (CVD), der typischerweise in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung verschiedener Materialschichten auf Wafern wie Oxiden, Polysilizium und Metallen verwendet wird. Das Werkzeug verwendet eine kaltwandige Quarzprozesskammer zur Steuerung der Temperatur der Abscheidungsumgebung und eine Gaseinspritzeinrichtung zur Dispergierung der Reaktionsgase in die Reaktionskammer. Das System besteht aus vier Hauptkomponenten: der Prozesskammer, der Gaseinspritzeinheit, der Wafertransportmaschine und dem Elektrowerkzeug. Die Prozesskammer ist eine große Vakuumkammer mit einer HEPA-Filteranlage, die hilft, luftgetragene Partikel auszufiltern. Es enthält auch ein Quarzrohr, das hilft, die Prozesstemperatur geregelt zu halten. Das Gaseinspritzmodell ist dafür verantwortlich, die genaue Menge an Reaktantgasen bereitzustellen und die Einbringgeschwindigkeit in die Prozesskammer zu steuern. Die Wafertransporteinrichtung ist dafür zuständig, die Wafer in die Prozesskammer zu laden und die Wafer innerhalb der Kammer zu bewegen. Das System ist mit einem maximalen Pro-Wafer-Durchsatz von 200 Wafern pro Stunde ausgelegt. Schließlich ist ein rechnergesteuertes Leistungsaggregat für die Regelung des Leistungspegels zur Prozesskammer zuständig. Dies ist wichtig, da verschiedene Folien unterschiedliche Leistungsstufen benötigen, um die richtige Abscheidung zu gewährleisten. Die Maschine verfügt auch über eine automatische Leistungskompensation, die hilft, eine konsistentere Abscheidung für verschiedene Materialien zu erhalten. Abschließend ist AMAT Producer GT ein komplexes CVD-Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung in der Halbleiterindustrie. Es verfügt über eine Reihe verschiedener Komponenten, die zusammenwirken, um eine präzise Abscheidung einer Vielzahl von Folien auf Wafern zu ermöglichen. Das Werkzeug ist für einen maximalen Durchsatz von 200 Wafern pro Stunde ausgelegt und kann Änderungen der Leistung automatisch kompensieren, wenn verschiedene Folien abgeschieden werden. Dies hilft, eine gleichbleibende und qualitativ hochwertige Abscheidung aufrechtzuerhalten.
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