Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9265758 zu verkaufen
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ID: 9265758
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
CVD System, 12"
EFEM
Transfer module
AC Rack
NPP Rack
WIP Delivery type: OHT
Pre-alignment and centering: Single axis aligner
Wafer pass thru and storage: 7 Slots wafer pass thru
KAWASAKI 3NS510B Atmospheric robots
(4) Load ports
E84 Sensors and cables
OMRON With RF
Light curtain
Carrier ID host interface
Light towers
UPS Interface
Chamber process: HARP USG
Process chamber type:
Chamber A, B and C Twin: HT-ACL
Local center finder
Robot blade and type: FX Dual deck ceramic
Chamber A, B and C:
Frequency: Single
APEX 3000 RF Generator
Heater: HA12 Dual zone heater
Single source with RF cap
Manometer: 10 / 100 Torr / 70 Trip
Clean type (RPS): Single (NPR804L)
No NDTR endpoint
No DPA
Foreline, 2"
ISO: MKS 99D0654
TV: MKS 683B-26033
Monitors:
Stand alone
TTW With keyboard
Gas delivery - APF GP:
MFC:
UNIT 125
GF 125
No regulated gas panel
Gas feed: Bottom
Gas panel cabinet exhaust: Bottom exhaust
No interlock indicator
No transducers
No display gas pallet
No liquid source
Gas pallet configuration:
Chamber A:
Gas / Size / Model
AR / 4000 / Unit 125
O2 / 15000 / Unit 125
C3H6 / 3000 / GF 125
HE / 5000 / Unit 125
N2 / 10000 / Unit 125
C3H6 / 3000 / Unit 125
O2 / 10000 / Unit 125
AR / 10000 / Unit 125
NF3 / 5000 / Unit 125
Chamber B and C:
Gas / Size / Model
AR / 4000 / Unit 125
O2 / 15000 / Unit 125
C3H6 / 3000 / Unit 125
HE / 5000 / Unit 125
N2 / 10000 / Unit 125
C3H6 / 3000 / Unit 125
O2 / 10000 / Unit 125
AR / 10000 / Unit 125
NF3 / 5000 / Unit 125
Missing parts:
A1 RF Signal cable
L/L EUROTHERM controller
(2) PIRANI Gauges
Chamber C: (2) Heaters
(2) L/L Lift LM guides
Upper L/L foreline
(3) Chamber AC box kits
Mainframe box
Driver box kit
Power supply: 208 V, 50/60 Hz
2006 vintage.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein CVD-Reaktor, der den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Der Reaktor ermöglicht eine Reihe von Prozessen wie Oxidation, Nitridierung und Carbidisierung. AMAT Producer GT ist entweder in einer einzigen Waferkonfiguration oder in einer Chargenkonfiguration erhältlich und auf Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit ausgelegt. Der Reaktor verwendet eine bewährte, zwangsgesteuerte Gasfördereinrichtung, die in der Lage ist, gleichmäßige Temperatur- und Konzentrationsprofile innerhalb der Reaktorkammer zu erzeugen. Dies gewährleistet eine gleichbleibende Folienqualität und ein sehr gleichmäßiges Dotierungsprofil. Der Reaktor ist mit robusten luftgekühlten Heizgeräten und einem hochmodernen Temperaturregelsystem für verbesserte Prozessgleichförmigkeit ausgestattet. Die Heizelemente im Reaktor verwenden einen aktiven Wassermantel, um eine gleichmäßige Temperatur an der Waferoberfläche zu gewährleisten. Dies verhindert eine Überhitzung des Wafers und sorgt für eine gleichmäßigere Abscheidung. Der Reaktor ist aus Edelstahl aufgebaut und weist eine Vakuumkammer, eine Chargenplatte, eine Gasfördereinheit und einen Induktionsgenerator auf. Der Reaktor nutzt eine Hochleistungs-Spiralpumpe für Hochvakuum und schnelle Steuerung und Taktung der Druckniveaus. Zur Verringerung von Wärmebelastungsverlusten ist die Kammer mit Quarz oder Graphit isoliert. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT nutzt eine hohe Kapazität, niedrige Leistung HF-Generator und HF-Power-Delivery-Maschine für robuste und zuverlässige Plasmaerzeugung. Das Temperaturregelwerkzeug ist hochgenau und präzise und ermöglicht hohe Qualität, gleichmäßige Abscheideraten über einen großen Bereich von Durchflussraten, Temperaturen und Drücken. Der Reaktor umfasst eine breite Palette von Prozessrezepten für verschiedene Materialien und Anwendungen sowie die Anpassung der Strömungswege und Ventilauswahl. Es ist auch mit einer optionalen Rezeptbibliothek und einem Computersteuerungspaket für den Betrieb mehrerer Reaktoren in Suite erhältlich. Zusammenfassend ist Producer GT ein äußerst zuverlässiger und effizienter CVD-Reaktor, der konsistente Folienqualität und gleichmäßiges Dotierungsprofil liefert. Seine robusten luftgekühlten Heizungen und seine überlegene Temperaturregelung sorgen für einheitliche Filmeigenschaften und -leistung, während seine breite Palette an Prozessrezepten es ermöglicht, für vielseitige Anwendungen verwendet zu werden.
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