Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9265758 zu verkaufen

ID: 9265758
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
CVD System, 12" EFEM Transfer module AC Rack NPP Rack WIP Delivery type: OHT Pre-alignment and centering: Single axis aligner Wafer pass thru and storage: 7 Slots wafer pass thru KAWASAKI 3NS510B Atmospheric robots (4) Load ports E84 Sensors and cables OMRON With RF Light curtain Carrier ID host interface Light towers UPS Interface Chamber process: HARP USG Process chamber type: Chamber A, B and C Twin: HT-ACL Local center finder Robot blade and type: FX Dual deck ceramic Chamber A, B and C: Frequency: Single APEX 3000 RF Generator Heater: HA12 Dual zone heater Single source with RF cap Manometer: 10 / 100 Torr / 70 Trip Clean type (RPS): Single (NPR804L) No NDTR endpoint No DPA Foreline, 2" ISO: MKS 99D0654 TV: MKS 683B-26033 Monitors: Stand alone TTW With keyboard Gas delivery - APF GP: MFC: UNIT 125 GF 125 No regulated gas panel Gas feed: Bottom Gas panel cabinet exhaust: Bottom exhaust No interlock indicator No transducers No display gas pallet No liquid source Gas pallet configuration: Chamber A: Gas / Size / Model AR / 4000 / Unit 125 O2 / 15000 / Unit 125 C3H6 / 3000 / GF 125 HE / 5000 / Unit 125 N2 / 10000 / Unit 125 C3H6 / 3000 / Unit 125 O2 / 10000 / Unit 125 AR / 10000 / Unit 125 NF3 / 5000 / Unit 125 Chamber B and C: Gas / Size / Model AR / 4000 / Unit 125 O2 / 15000 / Unit 125 C3H6 / 3000 / Unit 125 HE / 5000 / Unit 125 N2 / 10000 / Unit 125 C3H6 / 3000 / Unit 125 O2 / 10000 / Unit 125 AR / 10000 / Unit 125 NF3 / 5000 / Unit 125 Missing parts: A1 RF Signal cable L/L EUROTHERM controller (2) PIRANI Gauges Chamber C: (2) Heaters (2) L/L Lift LM guides Upper L/L foreline (3) Chamber AC box kits Mainframe box Driver box kit Power supply: 208 V, 50/60 Hz 2006 vintage.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein CVD-Reaktor, der den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Der Reaktor ermöglicht eine Reihe von Prozessen wie Oxidation, Nitridierung und Carbidisierung. AMAT Producer GT ist entweder in einer einzigen Waferkonfiguration oder in einer Chargenkonfiguration erhältlich und auf Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit ausgelegt. Der Reaktor verwendet eine bewährte, zwangsgesteuerte Gasfördereinrichtung, die in der Lage ist, gleichmäßige Temperatur- und Konzentrationsprofile innerhalb der Reaktorkammer zu erzeugen. Dies gewährleistet eine gleichbleibende Folienqualität und ein sehr gleichmäßiges Dotierungsprofil. Der Reaktor ist mit robusten luftgekühlten Heizgeräten und einem hochmodernen Temperaturregelsystem für verbesserte Prozessgleichförmigkeit ausgestattet. Die Heizelemente im Reaktor verwenden einen aktiven Wassermantel, um eine gleichmäßige Temperatur an der Waferoberfläche zu gewährleisten. Dies verhindert eine Überhitzung des Wafers und sorgt für eine gleichmäßigere Abscheidung. Der Reaktor ist aus Edelstahl aufgebaut und weist eine Vakuumkammer, eine Chargenplatte, eine Gasfördereinheit und einen Induktionsgenerator auf. Der Reaktor nutzt eine Hochleistungs-Spiralpumpe für Hochvakuum und schnelle Steuerung und Taktung der Druckniveaus. Zur Verringerung von Wärmebelastungsverlusten ist die Kammer mit Quarz oder Graphit isoliert. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT nutzt eine hohe Kapazität, niedrige Leistung HF-Generator und HF-Power-Delivery-Maschine für robuste und zuverlässige Plasmaerzeugung. Das Temperaturregelwerkzeug ist hochgenau und präzise und ermöglicht hohe Qualität, gleichmäßige Abscheideraten über einen großen Bereich von Durchflussraten, Temperaturen und Drücken. Der Reaktor umfasst eine breite Palette von Prozessrezepten für verschiedene Materialien und Anwendungen sowie die Anpassung der Strömungswege und Ventilauswahl. Es ist auch mit einer optionalen Rezeptbibliothek und einem Computersteuerungspaket für den Betrieb mehrerer Reaktoren in Suite erhältlich. Zusammenfassend ist Producer GT ein äußerst zuverlässiger und effizienter CVD-Reaktor, der konsistente Folienqualität und gleichmäßiges Dotierungsprofil liefert. Seine robusten luftgekühlten Heizungen und seine überlegene Temperaturregelung sorgen für einheitliche Filmeigenschaften und -leistung, während seine breite Palette an Prozessrezepten es ermöglicht, für vielseitige Anwendungen verwendet zu werden.
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