Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9281276 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactor ist ein Werkzeug, das in der Halbleiterherstellung verwendet wird, um Oberflächen mit Modifikationen wie Dünnschichtwachstum, Ätzen und Abscheidung zu entwickeln. Diese Ausrüstung ermöglicht eine präzise Handhabung von Oberflächen, um gewünschte Materialeigenschaften zu erzeugen. Das System basiert auf der Plattform einer „Inductively Coupled Plasma“ (ICP) -Quelle, die ein gleichmäßiges Plasma über die gesamte Probe liefert. Der GT-Reaktor verfügt auch über eine ICP-Quelle, die mit HF-Energie versorgt wird, die von einer induktiven Spule an die Quelle übertragen wird. Die ICP-Quelle ermöglicht höhere Stromdichten als herkömmliche Plasmaquellen, was eine größere Flexibilität bei Prozessparametern ermöglicht. AMAT Producer GT Reactor bietet eine präzise Platzierung mehrerer Energiequellen gleichzeitig, so dass gewünschte Modifikationen effizient erreicht werden können, während das „Cocktailing“ oder das Vermischen von Materialien minimiert wird. Die präzise Platzierung von Quellen ermöglicht auch die Kontrolle des Prozesses und ermöglicht maßgeschneiderte Lösungen für die individuelle Gerätearchitektur. Darüber hinaus verfügt der GT-Reaktor über eine Niederdruck-/Hochleitfähigkeitskonfiguration zur Begrenzung von Gasphasenreaktionen und eine oxidierende Gasfähigkeit, um sicherzustellen, dass Oxide mit niedrigen Kontaminationsraten ordnungsgemäß gewachsen sind. Der GT-Reaktor verfügt über eine Gasstrom-Steuereinheit, die es dem Bediener ermöglicht, die Prozesstemperatur sowie die Gasströmungsdynamik zu regeln, was zu einem zuverlässigen Betrieb und zur Herstellung von Produkten mit gewünschten Geometrien und Eigenschaften führt. Die Gasströmungsmaschine ermöglicht es dem Bediener auch, Gasdrücke, Oxidation und andere Bedingungen zu variieren, um dünne Folienschichten zu entwickeln. Dies erleichtert ein hohes Maß an Prozesskontrollcharakteristik von Prozesskammerwerkzeugen. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT Reactor nutzt die ICP-Quelle auch, um ein hochdichtes Plasma für Ätzprozesse zu erzeugen. Dies hilft, thermische Budgets zu reduzieren, indem hohe Ätzraten ermöglicht werden, während die Ätzbyproduktbildung auf der Oberfläche auf ein Minimum reduziert wird. Darüber hinaus verfügt der GT-Reaktor über ein „Front End Load Lock“ -Werkzeug, mit dem einfache Waferaustausche durchgeführt werden können, ohne das Vakuum zu brechen. Wafer können schnell und einfach in und aus dem Werkzeug bewegt werden, ohne auf Integrität zu verzichten. Dies ermöglicht Prozessvielfalt und eine nahtlose Anpassung an sich ändernde Produktionsanforderungen. Hersteller GT Reactor ist ein hochmodernes Werkzeug, das bei der Halbleiterherstellung verwendet wird, um Oberflächen mit gewünschten Materialeigenschaften genau zu entwickeln. Es basiert auf einer ICP-Quelle, die höhere Stromdichten und eine präzise Platzierung mehrerer Energiequellen ermöglicht, die für Modifikationen vom Dünnschichtwachstum bis zum Ätzen geeignet sind. Der GT-Reaktor umfasst eine Gasstrom-Steuerung, Frontend-Lastschlösser und eine Niederdruck/Hochleitwert-Konfiguration, um einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten und Kontaminationen zu minimieren. Unter Verwendung der ICP-Quelle ist es in der Lage, hohe Ätzraten bereitzustellen, ideal für fortgeschrittene Anforderungen an die Geräteherstellung.