Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9355860 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT ist ein fortschrittlicher Waferproduktionsreaktor. Dieses Werkzeug verwendet Plasmaverfahren, um Dünnfilm-Halbleiterschichten auf Wafern in der Herstellung von Halbleitern mit hohem Volumen zu erzeugen. AMAT Producer GT ist eine millionenschwere Ausrüstung, die für Halbleiterproduktionen mit einer Wafergröße von 300mm oder einer Wafergröße von 200mm geeignet ist. Die Reaktionskammer misst 14 Fuß hoch mit einer maximalen Durchsatzrate von 200 Wafern pro Stunde. Das automatisierte Wafertransportsystem ermöglicht schnelle Produktionszyklen mit geringen Ausfallzeiten. ANWENDUNGSMATERIALIEN Hersteller GT ist ein modulares Werkzeug, das eine breite Palette von Plasmaprozessen aufnehmen kann. Plasma wird mit einem Hochfrequenzgenerator erzeugt, der zur Aktivierung eines dielektrischen Quellgases dient. Mit diesem Plasmaverfahren werden dann Dünnschichtschichten auf die Waferoberfläche abgeschieden. Das Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Verfahren ist ein besonderes Merkmal dieser Einheit, das eine präzise kontrollierte Abscheidung sehr dünner Schichten aus Siliziumnitrid, Polysilizium und Siliziumoxid auf die Wafer ermöglicht. Diese Schichten werden zu einem entscheidenden Teil der Schaltungsanordnung, aus der der moderne fortschrittliche IC besteht. Die Maschine verfügt auch über zahlreiche Funktionen, um die höchstmögliche Leistung zu erzielen, von der Endpunktüberwachung und automatisierten Waferpositionierung über die Gasverteilung bis hin zur fortschrittlichen Prozesssteuerung. Die Hauptvorteile von Producer GT sind hohe Durchsatzgeschwindigkeiten, Produktivität und hervorragende Prozesskontrollfunktionen. Dadurch wird sichergestellt, dass das Endprodukt von höchster Qualität ist, mit zuverlässiger Waferabscheidung und verbesserter Leistung für die Anwendungen. Als eines der führenden Produktionssysteme für die Wafer-Fertigung ist AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT weiterhin ein gefragtes Equipment für die Wafer-Fertigung. Durch die Rationalisierung des Produktionsprozesses und die Integration effizienterer Funktionen soll dieser Reaktor qualitativ hochwertige ICs schneller und billiger schaffen. Es hat sich als eine kostengünstige und zuverlässige Wahl für Hersteller erwiesen, so dass sie weiterhin die neuesten und größten Produkte im Bereich der Halbleitertechnologie produzieren können.