Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #293669533 zu verkaufen

AMAT Endura PVD Chamber ist ein spezieller physikalischer PVD-Reaktor, der für die Verarbeitung von fortschrittlichen Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Diese hochmoderne Ausrüstung bietet die Zuverlässigkeit und Zuverlässigkeit, die für die Verarbeitung einer Vielzahl von Wafergrößen und -materialien erforderlich ist, optimiert die Leistung und Ausbeute von Chips und ermöglicht eine Vielzahl von Abscheideprozessen. Die Endura PVD-Kammer nutzt die proprietären Magnetron-Sputter- und ionisierten physikalischen Bedampfungstechnologien (iPVD) von Advanced Materials und bietet überlegene Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit. Die PVD-Kammer besteht aus einem Vakuumsystem, einer Zielfläche, Prozesszonen, einem Roboter-Transferbereich und einer Prozesssteuereinheit. Es verfügt über einen hochpräzisen Roboterarm mit fortschrittlicher Umweltkontrolle für die automatisierte Übertragung und Verarbeitung von Wafern mit bis zu sechs Zoll Durchmesser. Diese hohe Leistung und Stabilität ermöglichen eine hohe Kontrolle der Materialeigenschaften und ermöglichen eine enge Gleichmäßigkeit über große Lauf- und Wafer-zu-Wafer-Produktion von Dichte, Dicke, Widerstand, Ätzvorspannung und Schrittabdeckung. Auch die Endura PVD-Kammer soll energieeffizient sein und den Bedarf an vorbeugender Wartung reduzieren. Die Maschine erspart zudem aufwendige kryogene Kühlsysteme, die selbst höchste Temperaturprozesse stabilisieren können. Die Kammer enthält eine proprietäre Hochleistungsquelle, die den Bedarf an häufigen Quellenwechseln reduziert und somit eine zuverlässigere und kostengünstigere Wartung der Geräte ermöglicht. Schließlich verfügt die Endura PVD-Kammer über erweiterte Prozesskontrollsysteme und -diagnosen, die helfen, potenzielle Probleme frühzeitig zu überwachen und zu identifizieren, was eine schnelle Reaktion und reduzierte Ausfallzeiten ermöglicht. Außerdem können alle Werkzeugparameter wie Prozessdruck, Leistung und Abscheiderate vom Bordcomputer aus überwacht und entsprechend eingestellt werden. In Kombination mit den umfassenden Diagnosefähigkeiten der Kammer schaffen diese Merkmale eine optimierte, hochzuverlässige Vakuumabscheidungskammer.