Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9202555 zu verkaufen

ID: 9202555
Includes: Cryo pump Wide body Standard body chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura ist ein physikalischer PVD-Reaktor, der speziell für die Verwendung mit der Endura-Plattform entwickelt wurde. Die Kammer dient zur Abscheidung dünner Halbleiterfilme auf Halbleiterscheiben und anderen Substraten. AMAT PVD-Kammer für Endura hat eine Glockenglas-Struktur mit einer Top-Beladung und einer Druckladeraum. Das Design verfügt über eine große untere Kuppel und zwei kleinere obere Kuppeln, die zum Be- und Entladen von Substraten verwendet werden. Diese Konstruktion ermöglicht einen einfachen Zugang zu den Substraten und Wafern während des Abscheidungsprozesses. Die Kammern sind aus hochwertigem Edelstahl gefertigt, um Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Die Endura-Ausrüstung verwendet auch ein modulares Magnetfeld-Emissionssystem, das die Injektion eines Gases in das Plasma des Geräts ermöglicht. Auf diese Weise können bei der Abscheidung unterschiedlichste Gase eingesetzt werden, darunter inerte, reaktive und Edelgase. Wenn das gewünschte Gas nicht verfügbar ist, hat die Maschine die Möglichkeit, benutzerdefinierte Gaskonfigurationen zu programmieren. Das Tool verfügt außerdem über einen optionalen Ladungsaustausch, der entworfen wurde, um Ladungskontamination zu minimieren und die Abscheidungsgleichmäßigkeit zu maximieren. Die Kammer enthält auch eine Reihe von integrierten Sicherheitsmerkmalen wie Sensoren, um eine plötzliche Druckänderung und eine Sperrfunktion zu erkennen, um einen Betrieb mit falschem Gas zu verhindern. Die Sicherheitsmerkmale sind so konzipiert, dass ein sicherer und zuverlässiger Betrieb der Kammer gewährleistet ist. Neben der Kammer enthält die Endura-Plattform weitere Komponenten wie Netzteile, Controller und Durchführungsanschlüsse. Die Kombination dieser Komponenten mit der PVD-Kammer von APPLIED MATERIALS für Endura ermöglicht es dem Anwender, hochwertige Wafer und Substrate zu erstellen. Die Fähigkeit, Parameter zu verfeinern und den Prozess zu manipulieren, bietet dem Anwender die nötige Flexibilität, um kundenspezifische Materialien für verschiedene Anwendungen herzustellen. Die Kammer wurde in einer Vielzahl von Branchen wie Halbleiter, LED, RFID und MEMS-Technologien verwendet. Abschließend bietet die PVD-Kammer für Endura dem Anwender die Möglichkeit, dünne Filme einfach und zuverlässig präzise auf Substraten abzuscheiden. Die Kammer hat den Abscheidungsprozess revolutioniert und es Benutzern ermöglicht, Materialien für eine Vielzahl von Anwendungen zu erstellen. Der einfache und modulare Aufbau der Kammer ermöglicht die Anpassung und Anpassung des Prozesses und macht ihn zu einem zuverlässigen und vielseitigen PVD-Reaktor.
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