Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 zu verkaufen
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ID: 9275254
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
12"
Process: WSI
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Heater: 0010-27430
Adaptor: 0040-98657
Manometer: 1350-00255
ISO valve: AVT-150M-P-03
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC
N2 100
AR 200
AR 20
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF
No matcher
No defective power supply
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD-Kammer für Endura ist ein spezialisierter Reaktor für die physikalische Dampfabscheidung (PVD). Dieser Reaktor verwendet schwer zu beschaffende Vorläufermaterialien, um verschiedene Folien auf zahlreichen Substraten abzuscheiden, darunter Metalle, Kunststoffe, Keramik und Glas. AMAT PVD-Kammer für Endura ist ein Hochleistungswerkzeug zum Abscheiden von Folien in einer dünnen, gleichmäßigen Schicht. Es verfügt über ein Zweizonendesign, das es dem Benutzer ermöglicht, die Temperatur des Substrats und der umgebenden Atmosphäre zu steuern, um den Abscheidungsprozess zu optimieren. Dies ermöglicht eine präzise Filmdickenregelung, die für viele PVD-Anwendungen unerlässlich ist. Die Kammer verfügt über eine Hochvakuumumgebung, die eine Reaktionstemperatur von bis zu 650 ° C ermöglicht. Diese Kammer verfügt zudem über eine einzigartige Niedergasdruckfähigkeit, die Kontaminationsrisiken minimiert. Seine große Abscheidungsfläche in Kombination mit seiner Temperatur- und Druckregelung ermöglicht eine gleichmäßige Verbesserung der Folienstruktur. Darüber hinaus verwendet die PVD-Kammer eine maßgeschneiderte Gasplatte, die die Einführung von für die Abscheidung wesentlichen Reaktivgasen ermöglicht. Zusätzlich kann diese Platte das Gemisch aus inerten und reaktiven Gasen in der Reaktionskammer steuern. ANGEWANDTE MATERIALIEN PVD-Kammer für Endura bietet Prozesssteuerung und Verständnis, die modernste Geräteleistung ermöglichen. Diese Kammer ermöglicht auch den Einsatz einer Vielzahl von Materialien und Prozessbedingungen für Anwendungen in der Energie-, Speicher- und optoelektronischen Geräteindustrie. PVD-Kammer für Endura ist das ideale Werkzeug für fortgeschrittene PVD-Anwendungen, ermöglicht die Abscheidung von dünnen Schichten, die präzise Abscheidungsparameter und Temperaturregelung erfordern. Diese Kammer kombiniert die Vorteile von Präzision, Gleichmäßigkeit und Oberflächenintegrität mit der Robustheit ihres einzigartigen Designs.
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