Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura
ID: 9275254
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
12" Process: WSI Magnet Cryo pump OB-IF8 Gate valve: VAT Heater: 0010-27430 Adaptor: 0040-98657 Manometer: 1350-00255 ISO valve: AVT-150M-P-03 ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014 Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769 Capacitance pirani gauge: 3310-00073 Pedestal integration box: 0010-28071 SAC CP 10 block board: AS0084-03 Shutter sensor assembly: 0190-10801 Source assembly: 0010-37254 Drivers: Heater driver: 3096-1007 Wafer lift driver: 0190-15328 Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1 Magnet rotation driver: BXD400B-S 5-Phase driver: A346-043-A4 MFC N2 100 AR 200 AR 20 Heater lift motor Shutter motor: PK564AW2-A8 Wafer lift motor: MQMA012AF No matcher No defective power supply 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD-Kammer für Endura ist ein spezialisierter Reaktor für die physikalische Dampfabscheidung (PVD). Dieser Reaktor verwendet schwer zu beschaffende Vorläufermaterialien, um verschiedene Folien auf zahlreichen Substraten abzuscheiden, darunter Metalle, Kunststoffe, Keramik und Glas. AMAT PVD-Kammer für Endura ist ein Hochleistungswerkzeug zum Abscheiden von Folien in einer dünnen, gleichmäßigen Schicht. Es verfügt über ein Zweizonendesign, das es dem Benutzer ermöglicht, die Temperatur des Substrats und der umgebenden Atmosphäre zu steuern, um den Abscheidungsprozess zu optimieren. Dies ermöglicht eine präzise Filmdickenregelung, die für viele PVD-Anwendungen unerlässlich ist. Die Kammer verfügt über eine Hochvakuumumgebung, die eine Reaktionstemperatur von bis zu 650 ° C ermöglicht. Diese Kammer verfügt zudem über eine einzigartige Niedergasdruckfähigkeit, die Kontaminationsrisiken minimiert. Seine große Abscheidungsfläche in Kombination mit seiner Temperatur- und Druckregelung ermöglicht eine gleichmäßige Verbesserung der Folienstruktur. Darüber hinaus verwendet die PVD-Kammer eine maßgeschneiderte Gasplatte, die die Einführung von für die Abscheidung wesentlichen Reaktivgasen ermöglicht. Zusätzlich kann diese Platte das Gemisch aus inerten und reaktiven Gasen in der Reaktionskammer steuern. ANGEWANDTE MATERIALIEN PVD-Kammer für Endura bietet Prozesssteuerung und Verständnis, die modernste Geräteleistung ermöglichen. Diese Kammer ermöglicht auch den Einsatz einer Vielzahl von Materialien und Prozessbedingungen für Anwendungen in der Energie-, Speicher- und optoelektronischen Geräteindustrie. PVD-Kammer für Endura ist das ideale Werkzeug für fortgeschrittene PVD-Anwendungen, ermöglicht die Abscheidung von dünnen Schichten, die präzise Abscheidungsparameter und Temperaturregelung erfordern. Diese Kammer kombiniert die Vorteile von Präzision, Gleichmäßigkeit und Oberflächenintegrität mit der Robustheit ihres einzigartigen Designs.
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