Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275263 zu verkaufen

AMAT PVD Endura Reactor ist eine hochmoderne physikalische Dampfabscheidungskammer (PVD), die zur Abscheidung von hochwertigen, spezialisierten Metall- und anderen dünnen Filmen verwendet wird. Diese Kammer besteht aus einem zylindrischen Reaktionsvolumen aus Edelstahl, ausgestattet mit Durchführungen für Leistung und HF-Kopplung. Es wurde entwickelt, um mehrere Wafer, typischerweise bis zu 6 „- 8“ Durchmesser, in einem einzigen Prozesslauf zu handhaben. Die Kammer kann mit einer Vielzahl von Materialquellen ausgestattet werden, einschließlich Sputtern, Verdampfen und Magnetronquellen. Das Reaktionsvolumen ist mit der Steuerseite der Kammer verbunden, die die Stromversorgungen, die Vor- und Nachprozessüberwachung, wie Materialsensoren, und Vakuumpumpen und Manometer aufnimmt. Ein Computer ist in das System integriert, um eine automatische Frequenz- und Leistungsabstimmung während des Abscheidezyklus zu ermöglichen. Die Kammern haben einen Temperaturbereich zwischen 5-350 Celsius und können auf 1,8 Millibar unter Druck gesetzt werden. Die PVD-Reaktion wird in der Kammer über ein zweistufiges Spiralvakuumpumpensystem aufrechterhalten und erschöpft, das die Temperatur und den Druck in der Kammer aufrechterhält, was eine bessere Kontrolle des Abscheideprozesses ermöglicht. Die Kammer ist auch mit Qualitätskontrollen ausgestattet, wie Gaspartikelerkennung, um die Qualität und Genauigkeit der Ablagerungen zu gewährleisten. Die Kammer wird mit einem Hochfrequenz-HF-Netzteil versorgt, das bis zu 500 Watt Leistung an die Waferoberfläche liefern kann. Die Kammer kann auch im Pulsmodus betrieben werden, was eine gepulste Abscheidung komplexerer Filme ermöglicht. Es ist auch in der Lage, dünne Filme mit präziser Dicke und Gleichmäßigkeit über große Bereiche zu produzieren. Der Endura Reaktor ist ein leistungsstarkes Werkzeug für die Abscheidung einer Vielzahl fortschrittlicher Materialien wie Keramik, Nitride, Legierungen, Metalle und Polymere. Sein vielseitiges Design bietet eine große Auswahl an Substratgrößen, ohne auf Leistung zu verzichten, sodass komplexe Schichten über mehrere Wafer hinweg konsequent abgeschieden werden können. Das umfangreiche Leistungsspektrum des Endura Reactors, wie präzise Dickenkontrolle und Gleichmäßigkeit, macht es zu einer der fortschrittlichsten PVD-Kammern auf dem Markt.